SnO_2纳米棒阵列的制备及光学、场发射性能研究.docx
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SnO_2纳米棒阵列的制备及光学、场发射性能研究随着纳米技术的发展,纳米材料的制备和研究逐渐成为热点领域之一。其中,SnO_2纳米棒阵列是一种非常有前景的材料,在光学和场发射方面具有独特的性能。本文将介绍SnO_2纳米棒阵列的制备方法以及其在光学和场发射方面的性能研究情况。一、SnO_2纳米棒阵列的制备方法目前,制备SnO_2纳米棒阵列的方法主要有溶胶-凝胶法、水热法、化学气相沉积法等。其中,水热法是一种较常用的方法。水热法制备SnO_2纳米棒阵列的具体步骤如下:1.准备SnCl_4·5H_2O,氨水、氢
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SiC纳米尖锥场发射阵列制备及其性能研究的中期报告这是一份关于SiC纳米尖锥场发射阵列制备及其性能研究的中期报告,以下将详细介绍实验方法和初步结果,希望能够为后续研究提供参考。1.实验方法SiC纳米尖锥场发射阵列的制备过程主要分为两个步骤:制备SiC纳米尖锥芯片和制备阵列。1.1制备SiC纳米尖锥芯片制备SiC纳米尖锥芯片的过程如下:(1)选取一块硅片作为基板。(2)在基板上分别溅射一层钼和一层氧化铝,用作金属导线和介电体。(3)利用光刻技术在氧化铝上定义出阵列区域。(4)在阵列区域内生长SiC纳米尖锥。