涂层、涡轮构件和制造涡轮构件的工艺.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN103213349A*(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103213349103213349A(43)申请公布日2013.07.24(21)申请号201310018436.9(22)申请日2013.01.18(30)优先权数据13/3525622012.01.18US(71)申请人通用电气公司地址美国纽约州(72)发明人E.卡拉W.A.纳尔逊P.S.迪马斯焦K.阿南德S.阿曼彻尔拉M.曼基肯蒂(74)专利代理机构中国专利代理(香港)有限公司72001代理人李强严志军(51)Int.Cl.B32B18/00(2006.01)B32B15/04(2006.01)F01D5/28(2006.01)权权利要求书2页利要求书2页说明书6页说明书6页附图4页附图4页(54)发明名称涂层、涡轮构件和制造涡轮构件的工艺(57)摘要公开一种涂层、涡轮构件和制造涡轮构件的工艺。该涂层包括由陶瓷微粒形成的陶瓷相和比陶瓷相具有更大的延展性的延展性基质。陶瓷相包括与陶瓷微粒基本相同的微结构。涡轮构件包括具有涂层的表面。工艺包括将涂层施用到涡轮构件的表面上。CN103213349ACN103249ACN103213349A权利要求书1/2页1.一种涂层，包括：由陶瓷微粒形成的陶瓷相；以及比所述陶瓷相具有更大的延展性的延展性基质；其中，所述陶瓷相包括与所述陶瓷微粒基本相同的微结构。2.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述陶瓷微粒选自由下者组成的组：碳化钨、碳化铬、氧化锆、氧化铪、氧化铝、莫来石、硅铝氧氮陶瓷和它们的组合。3.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述陶瓷微粒包括碳化钨，并且所述陶瓷相基本没有碳化二钨。4.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述陶瓷相基本没有脱碳陶瓷。5.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述陶瓷相基本没有氧化陶瓷。6.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述延展性基质包括不锈钢。7.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述延展性基质包括MCrAlY合金。8.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述延展性基质包括镍基合金和钴基合金中的一个或两者。9.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述延展性基质包括介于大约20.0重量%和大约23.0重量%之间的铬、高达大约5.0重量%的铁、介于大约8.0重量%和大约10.0重量%之间的钼、介于大约3.2重量%和大约4.2重量%之间的铌、高达大约1.0重量%的钴、高达大约0.5重量%的锰、高达大约0.4重量%的铝、高达大约0.4重量%的钛、高达大约0.5重量%的硅、高达大约0.1重量%的碳、高达大约0.015重量%的硫、高达大约0.015重量%的磷、附带杂质和余量为镍(例如高达大约58.0重量%)的复合物。10.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述延展性基质包括高达大约0.06重量%的碳、高达大约0.35重量%的锰、高达大约0.35重量%的硅、高达大约0.020重量%的磷、高达大约0.015重量%的硫、介于大约14.5重量%和大约17.5重量%之间的铬、高达大约1.00重量%的钴、高达大约0.40重量%的铝、介于大约1.50重量%和大约2.00重量%之间的钛、高达大约0.006重量%的硼、高达大约0.30重量%的铜、介于大约39.0重量%和大约44.0重量%之间的镍和钴、介于大约2.50重量%和大约3.30重量%之间的铌和钽、附带杂质和余量为铁的复合物。11.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述延展性基质包括介于大约50.0重量%和大约55.0重量%之间的镍、介于大约17.0重量%和大约21.0重量%之间的铬、介于大约2.8重量%和大约3.3重量%之间的钼、介于大约4.75重量%和大约5.5重量%之间的铌、高达大约1.0重量%的钴、高达大约0.35重量%的锰、介于大约0.65重量%和大约1.15重量%之间的铝、高达大约0.3重量%的钛、高达大约0.35重量%的硅、高达大约0.08重量%的碳、高达大约0.015重量%的硫、高达大约0.015重量%的磷、高达大约0.006重量%的硼、附带杂质和余量为铁的复合物。12.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述延展性基质包括介于大约55重量%和大约59重量%之间的镍、介于大约19重量%和大约22.5重量%之间的铬、介于大约7重量%和大约9.5重量%之间的钼、高达大约0.35重量%的铝、介于大约1重量%和大约1.7重量%之间的钛、介于大约2.75重量%和大约4重量%之间的铌、附带杂质和余量为铁的复合物。2CN103213349A权利要求书2/2页13.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述延展性基质包括介于大约20.5重量%和大约23.0重