光学相位测量轮廓术的分析及应用.docx
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光学相位测量轮廓术的分析及应用.docx
光学相位测量轮廓术的分析及应用光学相位测量轮廓术是一种现代光学技术,用于测量物体表面形状和表面变形的方法。它是通过将相位偏移引入光的波动中,借助相位差计算出物体表面形态的一种方法。随着光学技术的不断发展,光学相位测量轮廓术被广泛应用于各种领域,如制造、设计、物理学、生物学、医学和航空航天等领域。1.原理及方法光学相位测量轮廓术是一种通过测量光波将其携带的相位信息来计算物体表面形态的方法。这种技术可以将光波分成参考光和测试光两部分,通过测试光在物体表面反射时对参考光的相位差进行测量,来计算出物体表面的形状。
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相位测量轮廓术应用于叶片测量相位测量轮廓术(PhaseMeasuringProfilometry,PMP)是一种用于测量物体表面形状的非接触式光学测量技术。它通过分析物体表面反射的光的相位信息,实现对物体形状的高精度测量。相位测量轮廓术广泛应用于各个领域,其中之一就是叶片测量。叶片是风力发电机、水力发电机等各类机械设备中不可或缺的重要构件。叶片的形状对于设备的性能和效率有着至关重要的影响。因此,准确测量叶片的形状对于设计、制造和维护工作都具有重要的意义。相位测量轮廓术能够精确测量叶片的形状,在叶片设计、生
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基于相位测量轮廓术的煤炭形貌测量本文采用KineticMonte-Carlo方法对1+1维BallisticDeposition(BD)模型空洞的动力学标度行为进行了大量的数值模拟研究。制备了羧基化多壁碳纳米管修饰电极(MWNT-COOHCME)。结果表明,该修饰电极对嘌呤化合物具有良好的电催化行为。与高效液相色谱(HPLC)联用,该修饰电极可用于安培检测次黄嘌呤(HX)和黄嘌呤(X)两种化合物。在一定浓度范围内,HX和X的浓度分别与氧化峰的峰电流呈良好的线性关系,线性相关系数分别为0.9999和0.99
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相位测量轮廓术中正弦光栅的构造及频谱分析相位测量轮廓术(PhaseMeasuringProfilometry,简称PMP)是一种用于测量物体表面形状和轮廓的非接触式三维测量技术。其中,正弦光栅是一种常用的相位测量元件,它的构造和频谱分析对于PMP的研究和应用具有重要意义。本文将针对正弦光栅的构造及频谱分析,进行详细的阐述。一、正弦光栅的构造正弦光栅是一种周期性变化的光学元件,可以通过光刻技术在透明的基片上制作得到。其基本构造主要包括基片、光阻层和光刻图案三个部分。具体构造如下:1.基片:正弦光栅的基片可以
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本发明公开了一种基于区域定位的实时相位测量轮廓术,过程为:采集多帧变形条纹图,对多帧变形条纹图分别进行二值化处理,在处理后的图像分别圈出一个矩形区域作为匹配模板中心点的运动区域,在所述运动区域内进行像素匹配得到各帧变形条纹图中与被测物体上某一点的像素一一对的应最优的区域条纹图,根据所述区域条纹图计算被测物体高度调制的相位信息及被测物体高度引起的相位变化,根据相位和高度的对应关系确定被测物体的三维物体表面面形高度分布。本发明利用二值化变形条纹图有明显的灰度特征的特点,对像素匹配区域的进行处理,使得后期遍历像