基于逆补偿复合控制的抛光液供给系统设计.docx
快乐****蜜蜂
在线预览结束,喜欢就下载吧,查找使用更方便
相关资料
基于逆补偿复合控制的抛光液供给系统设计.docx
基于逆补偿复合控制的抛光液供给系统设计基于逆补偿复合控制的抛光液供给系统设计一、引言抛光工艺在工业生产中广泛应用,其中抛光液的供给系统作为关键的工艺辅助设备,对抛光效果具有重要影响。现有的抛光液供给系统普遍存在液位波动大、流量控制精度低等问题。为了解决这些问题,本文提出了一种基于逆补偿复合控制的抛光液供给系统设计。二、系统结构设计抛光液供给系统主要由液位控制模块和流量控制模块组成。液位控制模块负责根据抛光液的液位信号调整流量控制模块的工作状态,从而实现抛光液的稳定供给。液位控制模块采用PID控制算法,根据
基于高耦合逆变补偿的水利工程电气控制系统设计.docx
基于高耦合逆变补偿的水利工程电气控制系统设计随着现代化建设的不断发展,水利工程电气控制系统的技术水平也得到了大幅提升。而在这些系统中,高耦合逆变补偿技术已经成为了一个重要组成部分。本篇论文将从三个方面进行探讨:高耦合逆变补偿技术的原理、在水利工程中的应用以及该技术未来的发展方向。一、高耦合逆变补偿技术的原理高耦合逆变补偿技术是一种电力调节技术,可以用来控制电源的电压和电流,利用逆变器来支持网络电压,并且在出现电网电压异常时迅速注入补偿电流。在这个技术中,逆变器与调整电源相连,会将电源的电流暂时束缚起来,以
抛光液供给臂及抛光液供给装置.pdf
本发明提供了一种抛光液供给臂及抛光液供给装置,属于抛光设备领域,该抛光液供给臂包括臂体、喷嘴固定件、喷嘴和抛光液输送管道;臂体具有沿其长度方向设置的第一安装槽和第二安装槽,喷嘴固定件设置在第一安装槽内,抛光液输送管道设置在第二安装槽内,喷嘴固定件内部沿其长度设置有供水管道,多个喷嘴分别与喷嘴固定件内部供水管道连通,并且多个喷嘴分布在喷嘴固定件的长度方向,喷嘴能够相对于喷嘴固定件转动以调整喷射角度。从而对抛光垫进行充分清洗,消除清洗盲区,保障晶圆的抛光均匀性。该抛光液供给装置中利用驱动机构通过传动轴驱动抛光
CMP抛光液供给及分布系统的研究.docx
CMP抛光液供给及分布系统的研究CMP(化学机械抛光)是一种常用的表面处理技术,广泛应用于半导体制造、光学和电子工业等领域。其中,CMP抛光液是CMP过程中的重要组成部分,对抛光效果和成本控制起着决定性的作用。因此,研究CMP抛光液供给及分布系统对于提高CMP抛光过程的效率和稳定性具有重要意义。CMP抛光液供给及分布系统是指将抛光液从供应器官流到CMP机台上的系统。该系统通常由供给器、泵、管道和监测装置等组成。其主要功能是实现抛光液的精确供给和稳定分布,以确保抛光过程中的一致性和可重复性。首先,CMP抛光
基于常数对角优势补偿阵的多变量控制系统逆Nyquist阵列设计.docx
基于常数对角优势补偿阵的多变量控制系统逆Nyquist阵列设计随着现代控制技术的发展,多变量系统的控制实际应用越来越广泛。在控制系统设计中,稳定性是最为重要的要求之一。Nyquist稳定性准则是一种广泛使用的评估系统稳定性的方法,因此对于多变量控制系统的设计和分析中,逆Nyquist阵列的设计变得越来越重要。在多变量控制系统中,控制器参数的选择是一个非常关键的问题。特别是当变量之间存在相互耦合时,更需要仔细考虑参数选择。基于常数对角优势补偿阵的设计方法提供了一种实用的方法来解决这个问题。这种方法在满足稳定