抛光液供给臂及抛光液供给装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108177089A(43)申请公布日2018.06.19(21)申请号201810002341.0(22)申请日2018.01.02(71)申请人北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）地址100176北京市经济技术开发区泰河三街1号(72)发明人李伟姜家宏王铮(74)专利代理机构北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371代理人曾章沐(51)Int.Cl.B24B57/02(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图3页(54)发明名称抛光液供给臂及抛光液供给装置(57)摘要本发明提供了一种抛光液供给臂及抛光液供给装置，属于抛光设备领域，该抛光液供给臂包括臂体、喷嘴固定件、喷嘴和抛光液输送管道；臂体具有沿其长度方向设置的第一安装槽和第二安装槽，喷嘴固定件设置在第一安装槽内，抛光液输送管道设置在第二安装槽内，喷嘴固定件内部沿其长度设置有供水管道，多个喷嘴分别与喷嘴固定件内部供水管道连通，并且多个喷嘴分布在喷嘴固定件的长度方向，喷嘴能够相对于喷嘴固定件转动以调整喷射角度。从而对抛光垫进行充分清洗，消除清洗盲区，保障晶圆的抛光均匀性。该抛光液供给装置中利用驱动机构通过传动轴驱动抛光液供给臂运动，以实现对抛光液供给臂旋转位置的自动控制。CN108177089ACN108177089A权利要求书1/1页1.一种抛光液供给臂，其特征在于，包括：臂体、喷嘴固定件、喷嘴和抛光液输送管道；所述臂体具有沿其长度方向设置的第一安装槽和第二安装槽，所述喷嘴固定件设置在所述第一安装槽内，所述抛光液输送管道设置在所述第二安装槽内，所述喷嘴固定件内部沿其长度设置有供水管道，多个所述喷嘴分别与所述喷嘴固定件内部所述供水管道连通，并且多个所述喷嘴分布在所述喷嘴固定件的长度方向，所述喷嘴能够相对于所述喷嘴固定件转动以调整喷射角度。2.根据权利要求1所述的抛光液供给臂，其特征在于，所述喷嘴包括球座、球体、锁紧环和喷头；所述球座一端具有用以容纳所述球体的第一容纳槽，所述球体设置在所述第一容纳槽内，所述锁紧环具有用以容纳球体的第二容纳槽，所述锁紧环与所述球座连接，所述球体能够在所述第一容纳槽和第二容纳槽形成的空间内转动，所述球体与所述球座具有相贯通的流体通道，所述喷头与所述流体通道相连接。3.根据权利要求2所述的抛光液供给臂，其特征在于，所述喷头的出水口采用扇形。4.根据权利要求1-3任一项所述的抛光液供给臂，其特征在于，所述第二安装槽具有用于容纳所述抛光液输送管道的导向孔。5.一种抛光液供给装置，其特征在于，包括驱动机构、传动轴以及权利要求1-4任一项所述的抛光液供给臂；所述驱动机构与所述传动轴连接，所述传动轴与所述抛光液供给臂中的臂体连接，所述传动轴内部设置通道用以容纳水液供给管和抛光液供给管，所述水液供给管与所述喷嘴固定件内部供水管道连通，所述抛光液供给管道与所述抛光液输送管道连通。6.根据权利要求5所述的抛光液供给装置，其特征在于，所述驱动机构包括摆动气缸和带轮传动机构，所述摆动气缸通过所述带轮传动机构驱动所述传动轴转动。7.根据权利要求5所述的抛光液供给装置，其特征在于，所述驱动机构包括伺服电机和减速机构，所述伺服电机通过减速机构驱动所述传动轴转动。8.根据权利要求5所述的抛光液供给装置，其特征在于，还包括密封装置，其包括轴端压盖和轴端保护罩，所述轴端压盖用以固定套设在传动轴上的轴承，所述轴端保护罩与所述轴端压盖连接。9.根据权利要求8所述的抛光液供给装置，其特征在于，还包括第一密封圈，其设置在所述传动轴上，所述第一密封圈采用特氟龙自润滑密封圈。10.根据权利要求9所述的抛光液供给装置，其特征在于，还包括第二密封圈，其设置在所述传动轴上，所述第二密封圈采用格莱圈。2CN108177089A说明书1/6页抛光液供给臂及抛光液供给装置技术领域[0001]本发明涉及抛光设备领域，具体涉及一种抛光液供给臂及抛光液供给装置。背景技术[0002]在化学机械抛光(CMP)工艺过程中，抛光液是CMP的关键要素，抛光液性能直接影响着抛光后晶圆表面的质量，适宜的抛光液能够达到高材料去除速度、平面度高、膜厚均匀的效果。因此抛光液的输送装置至关重要，典型的CMP抛光液输送装置为抛光液输送臂。[0003]CMP工艺流程为：抛光盘上表面粘贴抛光垫，以一定速度旋转；抛光头底部吸附有晶圆，与抛光盘相同方向旋转且以进行摆动；修整器底部安装砂轮圆盘也以相同方向旋转用来活化抛光垫；抛光液供给臂从零点旋转到工作位，工作中输送抛光液。同时设有高压喷洗管道，清除抛光头保持环、抛光垫研磨过程中掉下的磨料。目前的抛光液输送臂采用喷嘴喷射水液对抛光垫进行清洗，而抛光垫的清洗程度直接关系到晶圆的抛