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一种新型紫外正型光刻胶成膜树脂的制备及光刻性能研究
摘要：
本文研究了一种新型紫外正型光刻胶成膜树脂的制备及其光刻性能。首先在紫外光敏剂的作用下，合成出两种具有较好成膜性质的树脂，然后利用紫外光刻技术对其进行光刻实验。结果显示，该新型树脂不仅具有优良的成膜性能，同时在光刻方面也具有良好的性能表现。
关键词：紫外正型光刻胶、成膜树脂、光刻性能
1.简介
光刻技术作为集成电路（IC）等微电子制造中的重要工艺，已成为实现微米甚至亚微米级别制作的必要手段。在光刻过程中，光刻胶的性能直接关系到整个光刻工艺的可行性和制作效果。因此，研发新型光刻胶材料已成为近年来的研究热点之一。
2.树脂的制备
本实验采用甲基异丁基甲酰胺（MIBC）和异戊二酸酐（IP）为合成原料，在紫外光敏剂的作用下，通过开环聚合反应法合成了两种具有较好成膜性质的树脂材料。其中，合成树脂的结构示例如下：
3.光刻性能测试
在制备出具有较好成膜性质的树脂材料后，运用紫外光刻技术对其进行了光刻实验。光刻过程中采用了一个365nm紫外激光器，并选用了采用不同光刻剂浓度下的光刻条件。在光刻的过程中，样品被放置于光刻机的UV曝光室中，在特定条件下经过一定时间的曝光后，通过显微镜对样品的光刻效果进行分析。
实验结果显示，两种树脂的光刻性能表现都较为优良。在经过曝光后，浸泡在显影液中的样品可以清晰地显示出所期望的微细图形。对于两种树脂而言，随着光刻剂浓度的增加，形成的图形变得更加明显且清晰，且经过多次刻制之后的成形精度也不会产生明显的偏差。
4.结论
本文研究了一种新型紫外正型光刻胶成膜树脂的制备及其光刻性能。结果表明，该新型树脂具有良好的成膜性能和优秀的光刻性能表现。通过优化光刻条件可以实现较高的形状精度和尺寸控制精度。因此，该新型光刻胶材料具有广阔的应用前景。