双行程运动式磨抛装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103537967103537967A(43)申请公布日2014.01.29(21)申请号201310547689.5(22)申请日2013.10.25(71)申请人浙江正威机械有限公司地址325207浙江省瑞安市飞云街道飞云新区孙鳌公路A-888号(72)发明人吴仕飞孙建伟虞臣昌林立铭王克求(51)Int.Cl.B24B9/08(2006.01)权权利要求书1页利要求书1页说明书2页说明书2页附图3页附图3页(54)发明名称双行程运动式磨抛装置(57)摘要本发明公开了一种双行程运动式磨抛装置，包括机架(1)、磨抛组件(2)，在机架上、并在磨抛组件的两下部处装有凸轮(5)，在该凸轮之间内通过膨胀套(6)而套有凸轮轴(7)，所述凸轮轴的一端通过中间传动组件(8)与动力源(9)相连。所述凸轮轴的另一端上装有凸轮光电组件(10)，该凸轮光电组件能感应凸轮的运动。本发明凸轮轴旋转而带动两凸轮同步转动，从而推动磨抛组件作斜边直线运动。当凸轮转到某点时，磨抛组件到达一高度、一角度，则凸轮光电组件发出信号，动力源停止工作，由磨抛组件对物件进行磨抛。其行程能得到准确控制、精度较高，工作平稳可靠，操作自动化高，提高了工作效率和加工质量，降低了生产成本。CN103537967ACN1035796ACN103537967A权利要求书1/1页1.双行程运动式磨抛装置，包括机架(1)、磨抛组件(2)，其特征在于：在所述机架(1)上、并在磨抛组件(2)的两下部处装有凸轮(5)，在该凸轮之间内通过膨胀套(6)而套有凸轮轴(7)，所述凸轮轴(7)的一端通过中间传动组件(8)与动力源(9)相连。2.根据权利要求1所述的双行程运动式磨抛装置，其特征在于：所述凸轮轴(7)的另一端上装有凸轮光电组件(10)，该凸轮光电组件能感应着凸轮的运动。3.根据权利要求2所述的双行程运动式磨抛装置，其特征在于：所述凸轮(5)的内部具有凹凸槽，所述凸轮光电组件(10)分为最高点光电件(11)、过渡点光电件(12)、最低点光电件(13)，其分别对应感应凸轮运动时的最高点、过渡点、最低点。4.根据权利要求1或2所述的双行程运动式磨抛装置，其特征在于：在所述机架(1)上、并与磨抛组件(2)的中部相连处装有辅助弹簧组件(15)。2CN103537967A说明书1/2页双行程运动式磨抛装置技术领域[0001]本发明涉及一种水钻磨抛机，具体是涉及一种应用于水钻磨抛机的磨抛装置。背景技术[0002]目前，全自动水钻磨抛机一般为无人组水钻加工方式，主要加工水钻品、服饰、工艺品、首饰等物件，其磨抛装置的高度、角度位置的变化由气缸带动，其行程难以准确控制、精度较差，且气缸工作冲击力较大，不利于水钻物件的加工，从而影响了水钻物件的加工质量。发明内容[0003]本发明的目的在于克服上述的不足，而提供一种能准确控制磨抛组件的高度、角度位置以有利于物件加工的双行程运动式磨抛装置。[0004]本发明的目的通过如下技术方案来实现：双行程运动式磨抛装置，包括机架、磨抛组件，在所述机架上、并在磨抛组件的两下部处装有凸轮，在该凸轮之间内通过膨胀套而套有凸轮轴，所述凸轮轴的一端通过中间传动组件与动力源相连。所述凸轮轴的另一端上装有凸轮光电组件，该凸轮光电组件能感应着凸轮的运动。[0005]采用本发明结构后，凸轮轴旋转而带动两凸轮同步转动，从而推动磨抛组件作斜边直线运动。当凸轮转到某点时，磨抛组件到达一高度、一角度时，则凸轮光电组件发出信号，动力源停止工作，由磨抛组件对物件进行磨抛。其行程能得到准确控制、精度较高，工作平稳可靠，操作自动化高，提高了工作效率和加工质量，降低了生产成本。附图说明[0006]下面结合附图与实施方式对本发明作进一步的详细描述。[0007]图1为本发明双行程运动式磨抛装置的安装结构示意图。[0008]图2为图1的部分侧向视图。[0009]图3为图1中的凸轮运动的轨迹图(含最高点、过渡点、最低点、两件凸轮的同步初始点)。具体实施方式[0010]参照图1、图2可知，本发明应用于水钻磨抛机的双行程运动式磨抛装置，包括机架1、磨抛组件2(为公知技术)，在所述机架1上、并在磨抛组件2的两下部处(通过凸轮顶轴承4)装有凸轮5(共两件)，在该凸轮之间内通过膨胀套6(共两件，使两件凸轮能达到同步旋转)而套有凸轮轴7，所述凸轮轴7的一端通过中间传动组件8与动力源9(为液压式电机)相连。所述凸轮轴7的另一端上装有凸轮光电组件10，该凸轮光电组件能感应着凸轮的运动。[0011]其中，所述磨抛组件2通过导轨3斜向装在机架1上。所述中间传动组件8为相3CN103537967A说明书2/2页互啮合的与动力源9相连的旋转齿轮、与