P-RAP法Bridgman技术生长KBr单晶.docx
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P-RAP法Bridgman技术生长KBr单晶P-RAP法Bridgman技术生长KBr单晶KBr是一种典型的离子晶体,在光学、电学和电子学等领域有着广泛的应用。为了实现这些应用,需要生长高质量的KBr单晶。在不同的生长技术中,P-RAP法Bridgman技术被广泛用于KBr单晶生长。本文将介绍这种技术的基本原理、实验步骤以及生长过程中需要注意的问题。1.基本原理P-RAP法是指预压、再冷却、再加压一体法,是一种在变温条件下进行晶体生长的方法。Bridgman技术则是指在底部温度为熔点时,通过一定速度向上
Bridgman的晶体生长技术.docx
Bridgman的晶体生长技术Bridgman的晶体生长技术1.Bridgeman法晶体生长技术简介Bridgman法是由Bridgman于1925年提出的。传统Bridgman法晶体生长的基本原理如图.1所示。将晶体生长的原料装入合适的容器中,在具有单向温度梯度的Bridgman长晶炉内进行生长。Bridgman长晶炉通常采用管式结构,并分为3个区域,即加热区、梯度区和冷却区。加热区的温度高于晶体的熔点,冷却区低于晶体熔点,梯度区的温度逐渐由加热区温度过渡到冷却区温度,形成一维的温度梯度。首先将坩埚置于
硅的直拉法单晶生长.pptx
硅的直拉法单晶生长直拉法(Czochralski法)单晶生长半导体圆片是从大块晶体上切割下来的,绝大多数晶体的主流生产技术是直拉生长法(Czochralski法)。这项工艺最早是由Teal在20世纪50年代初开发使用的,而在此之前,早在1918年,Czochralski采用过类似的方法,用它从熔融金属中拉制细灯丝。硅是一个单组分系统,从他开始研究晶体的生长是最容易的。直拉法分两种:坩埚直拉法、无坩埚直拉法直拉法是运用熔体的冷凝结晶驱动原理,在固液界面处,藉由熔体温度下降,将产生由液态转换成固态的相变化。当
APCVD法生长ZnO单晶和薄膜.docx
APCVD法生长ZnO单晶和薄膜APCVD法生长ZnO单晶和薄膜摘要:ZnO作为一种半导体材料,具有广泛的应用前景。生长ZnO单晶和薄膜的方法很多,其中APCVD法因其简便易行、控制方便、生长速度快等优点受到研究人员的广泛关注。本文介绍了APCVD法的原理和实验操作步骤,并综述了该方法的优点和缺点,最后,讨论了APCVD法在ZnO单晶和薄膜生长方面的应用现状以及存在的问题和挑战。关键词:ZnO;单晶;薄膜;APCVD;应用一、引言ZnO作为一种半导体材料,因其宽带隙(3.37eV)、大激子结合能(60me
一种提高直拉法单晶生长速度的单晶炉.pdf
本发明公开了一种提高直拉法单晶生长速度的单晶炉,包括导流筒,在导流筒内设置有冷却装置,所述冷却装置包括环绕导流筒内壁的钼筒,钼筒的内侧环绕设置中空的铜管,铜管的两端伸出到单晶炉外部,其中一端为冷却介质的进口,一端为冷却介质的出口,铜管内充满流动的冷却介质。铜管的内侧连接设置铜筒。本单晶炉结构设计合理,铜管按照一定锥度绕制后,穿出炉外,杜绝了冷却介质在炉内泄漏的可能。导流筒可以避免熔体飞溅到冷却装置。在直拉法单晶炉热场中采用该装置,可以强化生长界面附近的晶体冷却效果,增大晶体的纵向温度梯度,从而大幅提高晶体