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Si(113)表面原子结构的低能电子衍射研究 Si(113)是一种非常重要的半导体材料,具有广泛的应用,例如用于电子设备、光电子学和太阳能电池等方面。低能电子衍射技术是研究Si(113)表面结构的一种重要手段,本文将介绍关于Si(113)表面原子结构的低能电子衍射研究。 低能电子衍射技术是一种非常有用的表面分析技术,可以研究表面结构及其反应动力学等方面的信息。该方法基于电子的波粒二象性以及材料表面原子间距的典型尺寸与电子波长之间的相互作用。在低能电子荧光(LEED)和低能电子衍射(LEED)中,电子束穿过晶体表面,和表面原子发生散射,通过接收散射电子的信号分析表面原子排列。其中,LEED在能量范围内通常在20-200eV之间,而RHEED(反射高能电子衍射)在查看表面动态行为中使用,是LEED的高能版本,能量范围高于200eV整个范围,而中等能量为50-100eV左右。 Si(113)表面的原子结构相对复杂,由于其立方晶系的非常对称性和周期性表面原子排列,它的结构在很长一段时间里一直是非常吸引人的研究课题。研究者们发现,Si(113)表面存在多种不同的原子排列方式,包括重空穴原子序列、kink缺陷和切断原子序列等。这些不同的原子排列方式都可能对它们的表面性质产生重要影响。 通过低能电子衍射技术,可以对Si(113)表面的原子序列进行高分辨率的观察。尽管这种方法观测吸附原子的位置比较困难,但是对于表面原子排列的研究却非常有效。许多研究人员已经使用低能电子衍射技术来研究Si(113)表面结构,其中最早的研究是由Nagao等人在1995年发表的文章中提出这种表象是一种2*2周期的基元,具有11个表面原子。而其他的研究人员也对其进行了进一步的研究和结构确定,如在2002年,Arafune等在其文章中也提出了2x2结构,认为Si(113)表面由称为超原胞(超结构)的大结构单元组成(具有15个表面原子) 除以上结构,还有一些报道的结构如7x7结构,这种结构非常复杂。这可能是由于表面存在络合物、缺陷、杂质、吸附分子等因素所致。因此,在低能电子衍射实验中,这个7x7结构是相当难以解释的,需要专业技能得到解释。 目前,结合低能电子衍射以及密度泛函理论(DFT)研究方法被广泛用于对Si(113)表面原子结构的研究。DFT理论可以提供各种结构的计算方法,通过此种方法,可以得到对低能电子衍射实验结果进行分析,可以得到准确的晶面上原子的位置,反过来,通过测量,可以确定计算结果的准确性。 总之,低能电子衍射技术是研究Si(113)表面原子结构的一种非常重要和有效的方法。通过不断地研究和结合DFT理论计算,可以更好地了解Si(113)表面原子结构的性质及其在各种应用中的特性。