基底负偏压对CO_2气相反应溅射制备C∶TiO_2薄膜性能的影响研究.docx
快乐****蜜蜂
在线预览结束,喜欢就下载吧,查找使用更方便
相关资料
基底负偏压对CO_2气相反应溅射制备C∶TiO_2薄膜性能的影响研究.docx
基底负偏压对CO_2气相反应溅射制备C∶TiO_2薄膜性能的影响研究基底负偏压对CO₂气相反应溅射制备C:TiO₂薄膜性能的影响研究摘要:本研究采用溅射技术制备了C:TiO₂薄膜,并研究了基底负偏压对制备的薄膜性能的影响。研究结果表明,基底负偏压对薄膜的晶体结构、表面形貌和光电性能有明显影响。随着基底负偏压的增加,薄膜晶体结构由无定型向结晶转变,晶粒尺寸增大,表面粗糙度减小。与此同时,薄膜的光电性能也得到了改善,光电转换效率提高。关键词:溅射技术,C:TiO₂薄膜,基底负偏压,性能改善引言:C:TiO₂薄
衬底负偏压溅射对ZrN薄膜性能的影响研究.docx
衬底负偏压溅射对ZrN薄膜性能的影响研究衬底负偏压溅射对ZrN薄膜性能的影响研究摘要:随着科学技术的发展,薄膜材料在各个领域中的应用越来越广泛,特别是在光电子器件中的应用。ZrN薄膜作为一种有着良好光学和电学性质的材料,其性能对其应用具有重要影响。本文主要研究了衬底负偏压溅射对ZrN薄膜性能的影响,通过实验和分析得出了一些有意义的结论。关键词:衬底负偏压溅射,ZrN薄膜,性能1.引言薄膜材料广泛应用于光学、电子、能源等领域,其性能对器件的性能和稳定性有重要影响。ZrN薄膜作为一种金属氮化物薄膜,具有良好的
负偏压对低温沉积 TiN 薄膜表面性能的影响.doc
负偏压对低温沉积TiN薄膜表面性能的影响摘要:研究了在低温磁控溅射沉积TiN薄膜过程中,负偏压对基体温度、薄膜表面性能、薄膜与基体界面结合强度以及摩擦学性能的影响。研究结果表明,加负偏压条件下,明显提高基体温度,有益于晶粒细化,提高硬度,改善色泽,提高TiN/基体的界面结合强度,但会引起表面轻微的粗糙化;摩擦学试验表明,负偏压对低温磁控溅射TiN薄膜及其摩擦副的摩擦磨损性能的影响较明显。0引言磁控溅射具有可将等离子体约束于靶的附近,对基体轰击作用小的特点,这对希望减少基体损伤,降低沉积温度的应用场合来说是
气相法制备高性能钙钛矿薄膜的工艺研究.docx
气相法制备高性能钙钛矿薄膜的工艺研究气相法制备高性能钙钛矿薄膜的工艺研究摘要:钙钛矿材料由于其优异的光电性能而备受关注,然而传统的制备方法存在成本高、工艺复杂等问题。气相法作为一种新型的制备方法,具有成本低、工艺简单等优势,因此吸引了广泛的关注和研究。本文研究了气相法制备高性能钙钛矿薄膜的工艺,并对其工艺参数进行了优化。结果显示,通过控制沉积温度、气体流量和氧气含量等参数,可获得高质量的钙钛矿薄膜,进一步提高了其光电性能。这项研究为实现气相法制备高性能钙钛矿薄膜提供了重要的参考。关键词:气相法,钙钛矿材料
气相沉积法的薄膜制备研究.docx
气相沉积法的薄膜制备研究气相沉积(CVD,ChemicalVaporDeposition)法是一种广泛使用的薄膜制备技术,其特点是在高温条件下,使预先选择好的材料的化学反应生成需要的薄膜材料并沉积在基底上。本文将从CVD法的工作原理、优点、不足和应用等方面对其进行介绍。一、CVD法的工作原理CVD法的工作原理就是在高温下,将一定的气体送入反应腔室中,并与基底表面进行化学反应,反应产物沉积在基底表面上,从而形成薄膜。一般来说,CVD反应主要体现在以下几个方面:1.蒸汽沉积:在高温下,有些物质可以被升华成蒸汽