功率半导体器件击穿特性及结终端结构参数研究.docx
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功率半导体器件击穿特性及结终端结构参数研究标题:功率半导体器件击穿特性及结终端结构参数研究摘要:本文旨在研究功率半导体器件的击穿特性及其与结终端结构参数的关系。首先介绍了功率半导体器件的发展背景及重要意义,其次探讨了击穿现象的定义和影响因素。基于此,对结终端结构参数对器件击穿特性的影响进行了深入分析,并提出了一些优化措施和建议。通过实验和模拟的方法,验证了结终端结构参数对器件击穿特性的影响。一、引言功率半导体器件,在能源转换和控制中发挥了不可或缺的作用。而作为关键部件之一的结终端,其结构设计对器件的性能和
功率半导体器件的终端结构及功率半导体器件.pdf
本发明提供了一种功率半导体器件的终端结构及功率半导体器件。该功率半导体器件的终端结构包括位于功率半导体器件主体半导体区中的沟道环,所述沟道环的材料为相对介电常数为1~15之间的本征多晶材料。本发明的功率半导体器件的终端结构中沟道环采用相对介电常数在15以内的本征多晶材料,使通过该沟道环区域内的电场线接近水平、并且在该区域内无极值点,可以很好地降低载流子的滞留量,从而提高击穿电压。
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功率VDMOSFET终端结构的击穿特性研究与设计一、绪论功率VDMOSFET是一种常用的功率半导体器件,其应用范围广泛,如电池管理、电源管理、马达驱动、电机变频、逆变器等领域。而在此类应用场合中,高可靠性和快速开关速度是功率VDMOSFET特别重要的指标。击穿电压是功率VDMOSFET的一个重要特性之一,对器件的开关性能和可靠性有直接影响,因此研究和设计功率VDMOSFET终端结构的击穿特性变得非常重要。二、功率VDMOSFET的结构分析功率VDMOSFET是一个四端器件,包括源极(S)、漏极(D)、栅极
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高压功率半导体开关器件结终端的比较研究标题:高压功率半导体开关器件结终端的比较研究摘要:高压功率半导体开关器件在电力电子应用领域具有重要的作用。本文针对高压功率半导体开关器件的结终端进行了比较研究。首先,介绍了高压功率半导体开关器件的定义和分类。然后,对具有代表性的Si、SiC和GaN功率器件进行了结终端的性能比较分析,包括开关速度、损耗特性、可靠性和成本等方面。接着,基于以上比较分析结果,对高压功率半导体开关器件的结终端选择给出了一些建议,并对未来的发展趋势进行了展望。关键词:高压功率半导体开关器件;结
功率VDMOSFET终端结构的击穿特性研究与设计的中期报告.docx
功率VDMOSFET终端结构的击穿特性研究与设计的中期报告中期报告————————————————————————————————————————————一、研究背景现代电子技术中,功率型场效应晶体管被广泛应用于电源电路、驱动电路、开关电路等领域,其中VDMOSFET(VerticalDouble-diffusedMOSFET)由于其结构简单、工艺成熟、公共源极电路的低导通电阻等优点,得到了广泛的应用。在VDMOSFET的典型结构中,栅极位于沟道上方,源极和漏极两端分别嵌入半导体衬底之中,这种沟道型结构不