一种气流保护湿法刻蚀扩散面的装置.pdf

本发明公开了一种气流保护湿法刻蚀扩散面的装置，它包括：刻蚀机、刻蚀槽体、硅片、滚轮、腐蚀液液面、气泵、排气管、气孔、抽风机、抽风口和抽风管，所述的排气管位于硅片的上方，排气管上设有一排气孔，排气管和气泵相连，刻蚀机和刻蚀槽体的中间处设有抽风口，抽风口通过抽风管和抽风机相连，通过采用本发明，实现利用气流在硅片表面形成保护层，减少现有湿法刻蚀工艺中对扩散面产生的多余刻蚀区域，增加PN结的有效受光面积，提高光电转换效率，增加电池效率。

2023-10-12

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一种湿法刻蚀装置.pdf

本发明提供一种湿法刻蚀装置，包含刻蚀腔壳体，刻蚀剂喷洒装置，废汽排出装置，晶圆夹持装置，废液回收装置，其特征在于，所述废汽排出装置设置在腔室下方自上而下将废汽排出。根据本发明所描述湿法刻蚀装置在湿法刻蚀过程中可减少汽态反应液、反应产物和/或去离子水在刻蚀腔中的凝结，有效回收刻蚀腔反应中液体，保证刻蚀腔室内气氛干燥，同时减少刻蚀反应中的液体不规则飞溅，减少液体在晶圆表面的残留，从而减少刻蚀晶圆良率的下降。

2023-11-18

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一种可调节刻蚀液浓度的湿法刻蚀装置.pdf

本发明公开了一种可调节刻蚀液浓度的湿法刻蚀装置；所述湿法刻蚀装置包括刻蚀腔、刻蚀液槽、喷淋装置、刻蚀液管理系统；所述刻蚀腔用于容纳并刻蚀基板，所述刻蚀液槽用于储存刻蚀液，所述喷淋装置用于将刻蚀液槽内的刻蚀液喷入刻蚀腔内，所述刻蚀液槽与刻蚀腔底部连通，所述刻蚀液管理系统用于向刻蚀液中补充原料；所述刻蚀腔上设有主排气管，所述主排气管上设有排气泵；所述刻蚀液槽内设有微波发生器，所述微波发生器用于加热刻蚀液，所述刻蚀液槽上设有附加排气管，所述附加排气管与主排气管连通。本发明能够使酸液浓度回升或者保持稳定，保持刻蚀

2023-11-06

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一种湿法刻蚀的上料装置.pdf

本发明涉及一种湿法刻蚀的上料装置，包括上料主机台、反应槽、滚轮、储液槽，反应槽设置在上料主机台上，滚轮设置在反应槽的顶部，反应槽里放置有腐蚀液，反应槽中的腐蚀液的液面高于滚轮的底部，储液槽中的化学品和水通过循环泵输送至反应槽，储液槽上设置有化学品配液添加系统和水配液添加系统。其有益效果是：本实施例的湿法刻蚀的上料装置将上料和反应槽集成于一个单元槽，在完成硅片上料的同时，还可实现去除单面磷硅玻璃PSG、硼硅玻璃BSG、氮化硅SiNx等工艺的功能槽作用，从而增加了本发明的湿法刻蚀的上料装置的功能，减少了制造工

2023-09-01

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一种离液式硅片湿法刻蚀装置.pdf

一种离液式硅片湿法刻蚀装置，包括蚀刻槽、蚀刻液、吸雾管和吸液滚轮，其中，吸液滚轮等间隔等高度地安装在蚀刻槽内的上端面，蚀刻液的液面高于吸液滚轮外圆的下端面，低于吸液滚轮的轴线，吸雾管设置在两只吸液滚轮之间，且位于蚀刻液之上，吸液滚轮外圆的上端面之下，在吸雾管的外圆上侧面上设有吸气孔，吸雾管与吸风机相连，这样使得硅片四周被污染的面积大幅度缩小，上端面不会受到污染，保证了刻蚀区域的准确性，工艺控制简单，刻蚀效果稳定，刻蚀的合格品大幅度提高，还能进一步改善工作环境，防止蚀刻液雾气对操作者伤害。

2023-10-20

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