一种湿法刻蚀的上料装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107919307A(43)申请公布日2018.04.17(21)申请号201711267254.X(22)申请日2017.12.05(71)申请人泰州中来光电科技有限公司地址225500江苏省泰州市姜堰经济开发区开阳路6号(72)发明人林建伟何大娟刘志锋季根华刘勇(74)专利代理机构北京金之桥知识产权代理有限公司11137代理人林建军(51)Int.Cl.H01L21/67(2006.01)H01L21/677(2006.01)H01L31/18(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图1页(54)发明名称一种湿法刻蚀的上料装置(57)摘要本发明涉及一种湿法刻蚀的上料装置，包括上料主机台、反应槽、滚轮、储液槽，反应槽设置在上料主机台上，滚轮设置在反应槽的顶部，反应槽里放置有腐蚀液，反应槽中的腐蚀液的液面高于滚轮的底部，储液槽中的化学品和水通过循环泵输送至反应槽，储液槽上设置有化学品配液添加系统和水配液添加系统。其有益效果是：本实施例的湿法刻蚀的上料装置将上料和反应槽集成于一个单元槽，在完成硅片上料的同时，还可实现去除单面磷硅玻璃PSG、硼硅玻璃BSG、氮化硅SiNx等工艺的功能槽作用，从而增加了本发明的湿法刻蚀的上料装置的功能，减少了制造工序及设备成本，节约了功能槽的长度，节省了设备空间，减少了多道滚轮转动带来的碎片。CN107919307ACN107919307A权利要求书1/1页1.一种湿法刻蚀的上料装置，包括上料主机台、反应槽、滚轮、储液槽，其特征在于：所述反应槽设置在所述上料主机台上，所述滚轮设置在所述反应槽的顶部，所述反应槽里放置有腐蚀液，所述反应槽中的腐蚀液的液面高于所述滚轮的底部，所述储液槽中的化学品和水通过循环泵输送至所述反应槽，所述储液槽上设置有化学品配液添加系统和水配液添加系统。2.根据权利要求1所述的一种湿法刻蚀的上料装置，其特征在于：所述储液槽中还设置有化学品自动补给系统和水自动补给系统。3.根据权利要求1或2所述的一种湿法刻蚀的上料装置，其特征在于：所述滚轮为螺纹带液滚轮或海绵带液滚轮，所述滚轮带有定向功能。4.根据权利要求3所述的一种湿法刻蚀的上料装置，其特征在于：硅片通过所述滚轮之间的辊道水平输送，所述硅片的前部刚进入到反应槽中时，所述硅片的头部边缘略微接触反应槽中的腐蚀液的液面，以使得所述腐蚀液在硅片下表面形成薄膜。5.根据权利要求1或2所述的一种湿法刻蚀的上料装置，其特征在于：所述湿法刻蚀的上料装置还包括独立的循环系统和抽风系统。6.根据权利要求5所述的一种湿法刻蚀的上料装置，其特征在于：所述反应槽的材质为聚丙烯，其长度为400-1000nm。2CN107919307A说明书1/3页一种湿法刻蚀的上料装置技术领域[0001]本发明涉及晶体硅太阳能电池制造过程中的湿法刻蚀的技术领域，具体涉及一种湿法刻蚀的上料装置。背景技术[0002]晶体硅太阳能电池常规生产工艺一般包括以下步骤：清洗、制绒、扩散、刻蚀、去PSG、PECVD、丝网印刷和烧结。其中，刻蚀是其中的一个重要环节，其目的是去掉硅片背面和四周的PN结，以使硅片的正面和背面相互绝缘。[0003]目前，链式结构设备是一种常用的湿法刻蚀设备，其原理是：在HF/HNO3体系中，利用表面张力和毛细力的作用去除边缘和背面的PN结，而不会影响太阳能电池的结构。这种设备包括：刻蚀槽、水喷淋槽、碱槽、水喷淋槽、去PSG槽、水喷淋槽和吹干装置。[0004]随着各种新型高效电池的兴起，钝化技术对电池表面的要求越来越高，由于高温炉管等设备本身的限制，制备过程中容易带来另一面的绕镀现象，如何去除这一面绕镀的生成物，如磷硅玻璃PSG、硼硅玻璃BSG或氮化硅SiNx等物质，是电池制备过程中的一大难点。如果直接走湿法刻蚀，刻蚀并不能完全将绕镀生成物去除干净，因而会造成较高的表面复合速率，大大地降低电池的转换效率。[0005]目前，在湿法刻蚀机台上解决该问题的工艺流程如下：第一台设备：入料→单边刻蚀→水洗→吹干→出料；第二台设备：上料→刻蚀→水洗→HF酸洗→水洗→下料。这种方法不仅导致了设备的结构长，而且还增加了制造成本。因此，如何在不增加工序的基础上实现单面刻蚀是本领域的一大技术挑战。发明内容[0006]本发明的目的在于克服现有技术的不足，提供一种结构简单、成本低的晶体硅太阳能电池制造过程中的湿法刻蚀的上料装置。[0007]本发明的一种湿法刻蚀的上料装置，其技术方案为：[0008]一种湿法刻蚀的上料装置，包括上料主机台、反应槽、滚轮、储液槽，所述反应槽设置在所述上料主机台上，所述滚轮设置在所述反应槽的顶部，所述反应槽里放置有腐蚀液，所述反应槽中的腐蚀液的液面高于所述滚轮的底部，所述储液槽中