直流磁控溅射制备TiAlCN薄膜及其性能研究.docx
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直流磁控溅射制备TiAlCN薄膜及其性能研究.docx
直流磁控溅射制备TiAlCN薄膜及其性能研究摘要:本研究采用直流磁控溅射技术制备TiAlCN薄膜,并评估其力学性能及耐磨性能。结果表明:TiAlCN薄膜具有较高的硬度、弹性模量和磨损抗性能,且适用于高温环境下的应用。因此,该薄膜具有广泛的应用前景。关键词:直流磁控溅射;TiAlCN薄膜;力学性能;耐磨性能绪论直流磁控溅射技术是一种常见的制备薄膜的方法,可得到均匀、致密、具有优异性能的薄膜。TiAlCN薄膜由于具有高硬度、弹性模量和良好的耐磨性能,已广泛应用于工业领域中,如航空、航天、模具等领域。因此,研究
MoNb薄膜直流磁控溅射制备及性能研究.docx
MoNb薄膜直流磁控溅射制备及性能研究摘要:本文通过直流磁控溅射制备MoNb薄膜,并对其性能进行了研究。结果表明,MoNb薄膜具有良好的化学和力学稳定性,并且在低温时呈现出超导行为。此外,通过控制制备过程中的Mo/Nb比例和沉积时间,可以有效调控MoNb薄膜的组成和形貌,从而满足不同应用场景对膜材料的需求。关键词:MoNb薄膜,直流磁控溅射,沉积时间,Mo/Nb比例,超导行为1.引言MoNb合金是一种重要的材料,在能源、电子、航空等领域都有广泛应用。在红外传感器、超导磁体和寿命预测中,MoNb合金也有重要
直流磁控溅射法制备ZnO气敏薄膜及其性能研究.docx
直流磁控溅射法制备ZnO气敏薄膜及其性能研究摘要:本文采用直流磁控溅射法制备了氧化锌(ZnO)气敏薄膜,并研究了其在气体探测方面的性能。实验结果表明,该ZnO气敏薄膜对多种气体均具有良好的响应能力,并且具有良好的稳定性和重复性能。同时,对该ZnO气敏薄膜的结构和形貌进行了分析,发现其具有优异的晶体结构和微观形貌,这些因素均对其气敏性能的提高起到了重要作用。关键词:ZnO气敏薄膜;直流磁控溅射法;气体探测;晶体结构;表面形貌1.引言气体探测技术是现代化生产过程中不可或缺的一环,而氧化锌(ZnO)材料由于其优
Si薄膜的直流磁控溅射淀积及其性能研究.docx
Si薄膜的直流磁控溅射淀积及其性能研究直流磁控溅射是一种常用的薄膜制备方法,其具有较高的制备效率、良好的薄膜质量以及可调控的薄膜成分和结构等特点,因而在电子学、光电子学、信息技术和能源材料等领域得到广泛应用。为探究直流磁控溅射在薄膜制备及性能方面的研究,本文将综述该方法的基本原理、工艺参数的优化及其对薄膜性能的影响。首先,直流磁控溅射的基本原理是利用外加磁场的力线对溅射材料进行束缚,形成等离子体弧柱,并将溅射材料溅射到衬底上形成薄膜。这种溅射方式具有高离子化率、低溅射温度以及较高的沉积速率,能够制备均匀、
磁控溅射法制备SiC薄膜及其性能研究.docx
磁控溅射法制备SiC薄膜及其性能研究摘要SiC薄膜在电子器件中有着广泛的应用,在SiC材料的电学性能、热学性能方面均有优越表现。本文采用磁控溅射技术制备SiC薄膜,对其结构、光学、电学性能进行了研究。实验结果表明,磁控溅射法制备的SiC薄膜具有良好的结晶性和光学性能,具有很大的应用潜力。关键词:SiC薄膜,磁控溅射技术,性能研究引言SiC是一种宽带隙半导体材料,具有优异的物理、化学性质,特别在高温、高压和强辐射环境下具有良好的稳定性和快速响应性。SiC材料因此被广泛应用于电子设备、太阳能电池、热电转换器、