SPC技术在硅外延工艺中的应用.docx
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SPC技术在硅外延工艺中的应用SPC(统计过程控制)是一种基于统计学原理的质量管理方法,旨在通过实时监控和分析过程数据,保证生产过程的稳定性和质量的一致性。在硅外延工艺中,SPC技术的应用可以帮助厂商优化制造流程,加强对生产过程的掌控,提升产品质量和生产效率。本文将详细探讨SPC技术在硅外延工艺中的应用和意义。1.SPC技术的基本原理SPC技术是一种基于数据分析的质量控制方法,其核心是在生产过程中实时监测和分析每个生产批次的数据,通过比较各项指标的均值、标准差等数据,找出生产过程中的偏差和异常情况,并采取
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硅外延工艺中氢气的净化硅外延工艺中氢气的净化摘要:随着半导体工艺技术的快速发展,硅外延工艺成为半导体行业中重要的制备技术之一。而在硅外延工艺中,氢气的纯净度直接影响到晶体生长的质量和晶体管的性能。本论文将对硅外延工艺中氢气的净化进行探讨,并介绍了几种常见的氢气净化方法。一、引言近年来,随着半导体工艺技术的不断进步,硅外延工艺作为一种重要的半导体制备技术被广泛应用于集成电路、太阳能电池等领域。而在硅外延工艺中,由于晶体生长过程需要高纯度的氢气作为载气,并且氢气中的杂质会直接影响晶体的质量,因此对氢气的净化要
锗硅选择性外延在应变技术中的应用.docx
锗硅选择性外延在应变技术中的应用引言半导体外延技术是现代微电子技术的核心。它的应用已经在各个领域得到相关的发展和应用,对于提高微电子产业的产能和降低成本有着非常重要的作用。其中,在应变技术中使用的锗硅选择性外延技术已经变得越来受欢迎。本文将详细讨论锗硅选择性外延技术在应变技术中的优势及应用。锗硅选择性外延技术锗硅选择性外延技术是一种多晶硅外延技术,它主要是通过CVD或者MOCVD手段来实现。这种技术的重点在于多晶硅片的选择性。首先在单晶硅片上生长一个薄的单晶硅层,然后在这个表面应用一层多晶硅膜。接下来的步
硅外延片生产工艺技术研究.pdf
南学工程硕士学位论文UDC:——学号:Q鲤152东大分类号;zf碰硅外延片生产工艺技术研究答辩委员会主席茳亟熟熟.缝人丛垒赵拙蜜孑∥,r熬攫高溘啦垄送研究生姓名:导师姓名:亟±学科专业名称徽皇王堂刍固佳电壬堂论文提交日期2QQ皇生§目】a目论文答辩日期窒QQ3生】2目2Q目峦直太堂申请学位级别学位授予单位学位授予日期阗2003年12月20日级:评密,‘签名:链导爨签名:繇盎壹嘿盟』盈嬲:堕』:?y9';2881关予学位论文使用授权的说明学位论文独创性声明东南大学、中国科学技术信息研究所、国家图书馆有权保留
锗硅外延工艺的调试和优化.pdf
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