内容提供者
半导体薄膜ppt课件.ppt
2024-10-27
10金币
1.9MB
19页
lj****88
实名认证
内容提供者
1/10
2/10
3/10
4/10
5/10
6/10
7/10
8/10
9/10
10/10
亲，该文档总共19页，到这已经超出免费预览范围，如果喜欢就直接下载吧～
相关资料
半导体薄膜ppt课件.ppt
第三讲脉冲激光沉积3.1脉冲激光沉积概述是一种真空物理沉积工艺，是将高功率脉冲激光聚焦于靶材表面，使其产生高温及烧蚀，而产生高温高压等离子体，等离子体定向局域膨胀发射并在衬底上沉积形成薄膜。PLD系统示意图发展过程优点：1）无污染且易于控制2）能量高，靶膜成分接近一致3）易于掺杂4）适合超薄薄膜的生长5）沉积速率高缺点：1）不易于制备大面积的薄膜2）容易在薄膜表面产生微米-亚微米尺度的颗粒物污染3）某些材料靶膜成分不一致3.2脉冲激光沉积原理激光与物质的相互作用等离子体在空间的输运(1)烧蚀物的运动在气体
2024-10-27
10
1.9MB
半导体薄膜的应用ppt课件.ppt
物联网发展状况及核心技术主要应用领域：工业、能源、信息科学近几年发展趋势：能量变换半导体薄膜和器件半导体薄膜传感器半导体薄膜集成光学器件能量变换半导体薄膜和器件光子照射至半导体上使价带电子得能量到导带，产生电子空穴对，在PN结内电场作用下产生光生电动势2、热电变换薄膜材料3、超导薄膜器件半导体薄膜传感器半导体薄膜集成光学器件集成光学器件材料集成光路用材料的要求：1、具有某些功能，或者不仅能产生光、接收光、传输光、和控制光，而且还能制作各种回路。前者可以做成单功能或某些功能的集成光路，后者可以在同一基板上做
2024-10-27
10
1.4MB
半导体薄膜材料的制备研究现状ppt课件.ppt
薄膜半导体材料制备研究现状薄膜制备方法按物理、化学角度来分，有：利用蒸发、溅射沉积或复合的技术，不涉及到化学反应,成膜过程基本是一个物理过程而完成薄膜生长过程的技术,以PVD为代表。2.1真空蒸发镀膜工艺方法2.2溅射镀膜（sputteringdeposition）2.3离子成膜7二、化学气相沉积(CVD)900°C3.1液相外延Electrochemicalpreparationandcharacterizationofthree-dimensionalnanostructuredSn2S3semico
2024-10-26
10
3.1MB
半导体薄膜材料的制备研究现状PPT课件.ppt
薄膜半导体材料制备研究现状薄膜制备方法按物理、化学角度来分，有：利用蒸发、溅射沉积或复合的技术，不涉及到化学反应,成膜过程基本是一个物理过程而完成薄膜生长过程的技术,以PVD为代表。2.1真空蒸发镀膜工艺方法2.2溅射镀膜（sputteringdeposition）2.3离子成膜.二、化学气相沉积(CVD)900°C3.1液相外延Electrochemicalpreparationandcharacterizationofthree-dimensionalnanostructuredSn2S3semico
2024-10-18
10
2.8MB
半导体工艺技术薄膜淀积ppt课件.ppt
半导体制造工艺2半导体薄膜：Si介质薄膜：SiO2，Si3N4,BPSG，…金属薄膜：Al，Cu，W，Ti，…1）化学气相淀积—ChemicalVaporDeposition(CVD)一种或数种物质的气体，以某种方式激活后，在衬底表面发生化学反应，并淀积出所需固体薄膜的生长技术。例如：APCVD,LPCVD,PECVD,HDPCVD2）物理气相淀积—PhysicalVaporDeposition(PVD)利用某种物理过程实现物质的转移，即将原子或分子转移到衬底（硅）表面上，并淀积成薄膜的技术。例如：蒸发e
2024-10-22
10
18.2MB