氧化铟锡复合粉体烧结高密度靶材及性能研究.docx
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氧化铟锡复合粉体烧结高密度靶材及性能研究氧化铟锡复合粉体烧结高密度靶材及性能研究摘要:氧化铟锡(ITO)是一种广泛用于光电器件中的透明导电材料。本研究旨在利用烧结技术制备高密度的ITO靶材,并对其性能进行研究。首先,通过固相反应制备了不同比例的ITO复合粉体。然后,使用烧结工艺对粉体进行烧结,并分析了不同烧结温度和时间对靶材密度、晶体结构和导电性能的影响。最终得到了高密度的ITO靶材。关键词:氧化铟锡;烧结;靶材;密度;导电性能1.引言氧化铟锡(ITO)是一种具有透明和导电性的材料,广泛用于太阳能电池、液
氧化铟锡粉体和靶材制备工艺的优化研究的开题报告.docx
氧化铟锡粉体和靶材制备工艺的优化研究的开题报告一、研究背景氧化铟锡(ITO)材料是一种在半导体工业中广泛应用的透明导电材料。它具有优异的导电性能和透明性,可用于制作显示器、光伏电池和太阳能电池等领域。目前,ITO材料的制备方法主要包括物理气相沉积、溅射、化学气相沉积等。其中,溅射技术是目前最常用的ITO材料制备工艺之一。溅射技术具有制备工艺简单、反应条件控制方便、材料获得率高等优点。但是,溅射技术的缺点是材料的制备成本较高。为了降低ITO材料的制备成本,提高材料的性能和品质,需要对ITO粉体和靶材制备的工
氧化铟锡粉体和靶材制备工艺的优化研究的任务书.docx
氧化铟锡粉体和靶材制备工艺的优化研究的任务书任务书一、背景氧化铟锡(ITO)是一种广泛应用于导电薄膜领域的材料,具有优异的导电性和透明性能。目前,ITO主要通过溅射法制备,在电子显示器、太阳能电池、触摸屏等领域有着重要应用。然而,传统的ITO制备工艺存在一些问题,如成本高、环境污染等。因此,优化氧化铟锡粉体和靶材制备工艺将对ITO的应用和发展具有重要意义。二、研究目标本研究的目标是优化氧化铟锡粉体和靶材制备工艺,使其具有高导电性、高透明性和低成本的特点。具体研究内容包括:1.分析传统ITO制备工艺中存在的
一种氧化铟锡旋转靶材的烧结方法.pdf
本发明涉及一种氧化铟锡旋转靶材的烧结方法,包括以下步骤:㈠成型横截面为椭圆形的管状氧化铟锡靶材素坯;㈡在烧结炉的承烧板上,摆放二排挡块,二排挡块的间距比椭圆形氧化铟锡靶材素坯的外椭圆短轴大20~100mm;㈢将成型好的氧化铟锡靶材素坯平躺放在二排挡块之间,氧化铟锡靶材素坯的椭圆形长轴与承烧板垂直,然后在氧化铟锡靶材素坯两侧与挡块之间填充氧化铝砂,最后开始升温脱脂和烧结,得到氧化铟锡旋转靶材。该方法采用平躺烧结,可使旋转靶材的长度不受限于烧结炉高度,而是受限于烧结炉长度,并且采用椭圆形的素坯结构,能够抵消大
氧化铟锡靶材可调模具的设计与应用.docx
氧化铟锡靶材可调模具的设计与应用氧化铟锡(ITO)靶材是一种重要的材料,广泛应用于薄膜太阳能电池、平面显示器、触摸屏、LED器件、传感器等领域。然而,由于ITO靶材的高成本和稀缺性,人们开始探索替代材料,如铟锡氧化物、锡氧化物等。针对不同应用需求,设计可调模具用于制备不同性能的氧化铟锡靶材,提高材料的制备效率和性能。首先,我们需要了解氧化铟锡靶材的制备方法。一种常用的方法是射频磁控溅射(RF-DCsputtering),其基本原理是利用高能电子碰撞使靶材上的离子迁移到基底表面上,从而形成薄膜。射频磁控溅射