塑料薄膜的真空蒸镀技术和应用.docx
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塑料薄膜的真空蒸镀技术和应用塑料薄膜的真空蒸镀技术和应用摘要:塑料薄膜的真空蒸镀技术是一种应用广泛且有效的表面处理方法。本文从技术原理、工艺流程以及应用方面系统地介绍了塑料薄膜的真空蒸镀技术,并探讨了其在电子、光学、包装等领域的应用。该技术通过在塑料薄膜表面形成薄薄的金属蒸镀层,提高了塑料薄膜的物理和化学性能,并赋予其更多的功能和应用价值。一、引言塑料薄膜已经成为现代生活中广泛使用的一种包装材料。然而,由于其本身的特性,包括低耐高温性、易氧化和水解以及机械强度较低等问题,限制了其在某些特殊领域的应用。为了
蒸发源装置、真空蒸镀机和真空蒸镀方法.pdf
本发明公开一种蒸发源装置、真空蒸镀机和真空蒸镀方法,属于真空镀膜技术领域。其中,蒸发源装置包括旋转台和蒸发源单元,所述蒸发源单元设有多个并圆周设在所述旋转台上,所述蒸发源单元包括用于收容坩埚的壳体;所述蒸发源装置还包括遮挡件;所述遮挡件与所述旋转台可拆连接,所述遮挡件与任一所述蒸发源单元呈上下相对设置;所述遮挡件设有贯穿上下的通孔,所述壳体的上端相对于所述通孔凸出设置,且所述壳体的外周面与所述通孔的内周面连接。本发明结构新颖,设计独特,成本低,能够解决同一蒸发源单元在进行前后两次材料蒸发镀膜时发生材料交叉
真空蒸镀技术介绍.ppt
薄膜材料制备技术ThinFilmMaterials第二讲提要物理气相沉积(physicalvapordeposition,PVD)是利用某种物理过程物质的热蒸发或在粒子轰击下物质表面原子的溅射,不涉及化学反应过程的,实现原子从源物质到薄膜的可控转移的薄膜(及其他材料)制备方法。化学气相沉积(chemicalvapordeposition,CVD)是经由气态的先驱物,通过气相原子、分子间的化学反应,生成薄膜(及其他材料)的技术手段。使用固态或熔融态的物质作为沉积过程的源物质源物质经过物理过程进入气相在气
真空蒸镀技术介绍.pptx
提要物理气相沉积(physicalvapordeposition,PVD)是利用某种物理过程物质的热蒸发或在粒子轰击下物质表面原子的溅射,不涉及化学反应过程的,实现原子从源物质到薄膜的可控转移的薄膜(及其他材料)制备方法。化学气相沉积(chemicalvapordeposition,CVD)是经由气态的先驱物,通过气相原子、分子间的化学反应,生成薄膜(及其他材料)的技术手段。使用固态或熔融态的物质作为沉积过程的源物质源物质经过物理过程进入气相在气相中及在衬底表面并不发生化学反应使用相对较低的气体压力环
真空热蒸镀(VTE)技术.doc
有機奈米薄膜/真空熱蒸鍍金屬界面反應於高效率有機共軛高分子發光二極體元件之研究楊富順1,蔡仁傑1,郭宗枋1*,謝松年2,溫添進2,鍾嘉珽3,吳慶應31國立成功大學光電科學與工程研究所,台南,台灣2國立成功大學化工所,台南,台灣3奇美電子股份有限公司,台南,台灣HYPERLINK"mailto:guotf@mail.ncku.edu.tw"guotf@mail.ncku.edu.tw摘要在我們研究結果中發現,若能在共軛有機發光層與陰極金屬的接觸界面,佈置一特定官能性分子的有機奈米薄膜層,在使用Al電極