蒸发源装置、真空蒸镀机和真空蒸镀方法.pdf
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相关资料
蒸发源装置、真空蒸镀机和真空蒸镀方法.pdf
本发明公开一种蒸发源装置、真空蒸镀机和真空蒸镀方法,属于真空镀膜技术领域。其中,蒸发源装置包括旋转台和蒸发源单元,所述蒸发源单元设有多个并圆周设在所述旋转台上,所述蒸发源单元包括用于收容坩埚的壳体;所述蒸发源装置还包括遮挡件;所述遮挡件与所述旋转台可拆连接,所述遮挡件与任一所述蒸发源单元呈上下相对设置;所述遮挡件设有贯穿上下的通孔,所述壳体的上端相对于所述通孔凸出设置,且所述壳体的外周面与所述通孔的内周面连接。本发明结构新颖,设计独特,成本低,能够解决同一蒸发源单元在进行前后两次材料蒸发镀膜时发生材料交叉
真空蒸镀装置用蒸镀源.pdf
本发明提供一种真空蒸镀装置用蒸镀源,其在蒸镀升华性材料时,可增加每单位时间的升华量,对被蒸镀物的蒸镀率高。本发明的真空蒸镀装置(Dm)用蒸镀源(DS),其是配置在真空室(1)内,用于使升华性有机材料(7)升华并对被蒸镀物(Sw)进行蒸镀的真空蒸镀装置用蒸镀源,其具有:上表面开口(4),其具有朝向被蒸镀物(Sw)喷出升华的材料的坩埚(41);筒状体(5),其与该上表面开口(4)的壁面留出间隔地插入上表面开口(4)中并收纳升华性材料;以及加热单元(Ht),其可加热筒状体(5)内的材料;筒状体(5)上开设有容许
一种真空蒸镀装置及蒸镀方法.pdf
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种真空蒸镀装置及蒸镀方法。该真空蒸镀装置包括真空腔室及在所述真空腔室内自下而上依次设置的旋转基台、蒸发源及多个蒸镀区域;所述旋转基台的形状为勒洛三角形,且其在水平面的转动轨迹为圆角正方形;所述蒸镀区域沿所述旋转基台的转动轨迹间隔设置;所述蒸发源在旋转基台的带动下依次经过所述蒸镀区域的下方,使得蒸发源可同时在多个方向进行蒸镀作业,从而提高成膜的均一性以及对蒸发材料的利用率,利于推广与应用。
真空蒸镀装置.pdf
本发明提供了一种真空蒸镀装置,包括由顶板、底板及多个侧板相互连接密封形成的蒸镀腔,所述蒸镀腔内设置有蒸发源以及与所述蒸发源一一对应的材料回收装置,所述材料回收装置包括:蒸发源挡板,所述蒸发源挡板内部设置有加热电阻圈;回收结构,所述回收结构连接有移动结构,所述移动结构用于移动所述回收结构。本发明通过回收结构与移动结构相结合,对蒸镀腔内蒸发源挡板上的残留材料进行回收,回收时,不需长时间开启蒸镀腔,避免外来杂质进入腔体内,能够减少粒子产生、避免污染腔体、避免回收材料二次污染、保证作业人员的身体健康且降低后期材料
蒸镀装置及蒸镀方法.pdf
本申请实施例公开一种蒸镀装置及蒸镀方法。本申请实施例第一方面提供一种蒸镀装置,包括,掩膜板、蒸镀源以及监测设备,蒸镀源通过掩膜板对待蒸镀基板进行蒸镀,监测设备用于监测待蒸镀基板靠近掩膜板一侧表面的残留物。采用本申请第一方面的蒸镀方法得到的显示面板,显示面完整性高,整体显示效果优异,避免了显示面出现黑斑的问题。