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射频PECVD高速沉积微晶硅薄膜及其微结构和太阳能电池的研究 射频PECVD高速沉积微晶硅薄膜及其微结构和太阳能电池的研究 摘要:随着可再生能源的不断发展和应用,太阳能电池得到了广泛的应用。 微晶硅薄膜太阳能电池由于其高效率、低成本、易制备等特性,被广泛关注和研究。 本文通过射频PECVD高速沉积微晶硅薄膜的研究,并对其微结构及太阳能电池性能进行了分析和研究。 研究指出,痕量的SiH4可以加速RFS-PECVD反应的化学反应速率,进而提高SiH4转化率和沉积速率,可获得更高的晶体质量和更低的光吸收率。 此外,应用AFM和TEM等手段对微晶硅薄膜的微结构进行了观察和分析,发现其具有类似于多晶硅的晶体结构,颗粒度较大,晶界比较明显,晶粒间几乎没有固态扩散。 最后,通过对微晶硅薄膜太阳能电池的测试和分析,得出微晶硅薄膜制备的太阳能电池具有高效率、低成本、易制备等优点,已成为发展太阳能电池技术的重要手段。 关键词:射频PECVD,微晶硅薄膜,微结构,太阳能电池 1.引言 随着能源问题日益凸显,太阳能电池得到广泛的应用和研究。在新一代太阳能电池中,微晶硅薄膜太阳能电池具有高效率、低成本、易制备等特性,成为研究重点之一。 射频PECVD是一种众所周知的化学气相沉积技术,已被广泛应用于微晶硅薄膜的制备。 本文通过射频PECVD高速沉积微晶硅薄膜及其微结构和太阳能电池的研究,为微晶硅薄膜太阳能电池的制备及应用提供理论和实践依据。 2.实验 2.1材料制备 在射频PECVD反应室中,以纯氢气为载气,SiH4为硅源,掺杂气体PH3为掺杂源,掺杂量为1000ppm,反应器压力为0.8Torr,通过射频电源提供功率,并在230℃下进行反应。 2.2微结构分析 使用原子力显微镜(AFM)、透射电子显微镜(TEM)对微晶硅薄膜的微观结构进行观察和分析。 2.3太阳能电池制备 在p型硅基板上先沉积SiO2当作隔离层,然后在其上成长n型微晶硅层。然后在n型微晶硅层表面成长p型微晶硅层,形成p-i-n结构,最后在p型微晶硅层上沉积ITO透明电极。制备完成后,使用太阳模拟器对太阳电池进行测试分析。 3.结果与分析 3.1微晶硅薄膜的制备 痕量的SiH4可以加速RFS-PECVD反应的化学反应速率,进而提高SiH4转化率和沉积速率,可获得更高的晶体质量和更低的光吸收率。 AFM和TEM等手段观察和分析了微晶硅薄膜的结构。结果表明,微晶硅薄膜具有类似于多晶硅的晶体结构,颗粒度较大,晶界比较明显,晶粒间几乎没有固态扩散。 3.2太阳能电池性能的测试 对太阳能电池进行测试分析,结果表明:微晶硅薄膜制备的太阳能电池具有高效率、低成本、易制备等优点。 4.结论 本文通过射频PECVD高速沉积微晶硅薄膜的研究,对其微结构及太阳能电池性能进行了分析和研究,得出了微晶硅薄膜的制备对太阳能电池技术的贡献和优势。微晶硅薄膜制备是未来太阳能电池技术发展的重要手段,仍有很大的研究和应用价值。