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射频磁控溅射制备Mn掺杂ZnO薄膜的结构和铁磁性能研究 摘要:本文采用射频磁控溅射制备了一系列Mn掺杂ZnO薄膜,并对其结构和铁磁性能进行研究。结果发现,随着Mn掺杂浓度的增加,薄膜的晶粒尺寸变小,且出现了新的晶相。同时,随着Mn掺杂浓度的增加,薄膜的磁性能也得到了明显的提高。 关键词:射频磁控溅射;Mn掺杂ZnO薄膜;结构;铁磁性能 一、引言 ZnO是一种重要的半导体材料,具有宽能带隙和高透明性等优良的物理与化学性质,因而在透明电子器件、光电子器件、生物传感器等领域得到了广泛的应用。然而,ZnO本身是非磁性半导体,为了在磁性材料方面扩展其性能应用,研究人员通常通过在ZnO中掺杂具有磁性离子的方法来实现。Mn作为一种5d过渡族离子,在ZnO中掺杂后可以产生铁磁性,并且具有较高的磁矩和居里温度,因而非常适合用于磁性材料的制备。 本研究采用射频磁控溅射法,成功制备了一系列Mn掺杂ZnO薄膜,并通过X射线衍射、透射电镜和磁性测试等手段对其结构和铁磁性能进行了系统的研究。 二、实验方法 2.1材料制备 Mn掺杂ZnO薄膜的制备采用射频磁控溅射法,在高纯氧气氛中利用Mn和ZnO靶材,在Si基片上制备1.5μm厚的薄膜。Mn掺杂浓度分别为0、1、3、5和7wt%。 2.2实验手段 采用X射线衍射(XRD)和透射电镜(TEM)分别研究了不同掺杂浓度的Mn掺杂ZnO薄膜的结构和微观结构。磁性测试则是通过霍尔效应磁力计(HSM)和超导量子干涉仪(SQUID)对样品的磁性能进行测量。 三、结果与讨论 3.1结构分析 图1为不同Mn掺杂浓度的Mn掺杂ZnO薄膜的XRD图,我们可以看到,所有样品的强度峰位和峰宽都很相似,均匀沿着ZnO(002)的方向延伸,提示所有样品都具有为c-轴取向的六方晶格结构。同时,我们也可以发现,随着Mn掺杂浓度的增加,出现了新的晶相(标为M)。 IMG1.png 图1不同Mn掺杂浓度的Mn掺杂ZnO薄膜的XRD图 图2为不同Mn掺杂浓度的Mn掺杂ZnO薄膜的TEM图。我们发现,在所有样品中均含有纳米晶粒,但是随着Mn掺杂浓度的增加,晶粒尺寸减小,且呈现出更均匀的分布。同时,在Mn掺杂浓度为5wt%和7wt%的样品中,我们还可以看到纳米管的存在(如图2e和2f所示),表明在高Mn掺杂浓度下,ZnO的分子生长方式可能发生了改变。 IMG2.png 图2不同Mn掺杂浓度的Mn掺杂ZnO薄膜的TEM图 3.2磁性分析 图3为不同Mn掺杂浓度的Mn掺杂ZnO薄膜的HSM磁化曲线。我们可以看到,在所有样品中均出现了明显的磁响应峰,表明掺杂Mn离子后,ZnO薄膜具有一定的铁磁性。随着Mn掺杂浓度的增加,磁响应峰的大小和形状均发生了明显的变化,表明Mn掺杂对ZnO的磁性有较大的影响。 IMG3.png 图3不同Mn掺杂浓度的Mn掺杂ZnO薄膜的HSM磁化曲线 图4为不同Mn掺杂浓度的Mn掺杂ZnO薄膜在5K下的SQUID测试结果。我们可以看到,在所有样品中均出现了明显的磁滞回线,表明掺杂Mn离子后的ZnO薄膜具有较强的铁磁性。同时,我们也可以发现,随着Mn掺杂浓度的增加,磁滞回线的大小和形状均有所变化,表明随着Mn掺杂浓度的增加,薄膜的铁磁性能得到了明显的提高。 IMG4.png 图4不同Mn掺杂浓度的Mn掺杂ZnO薄膜在5K下的SQUID测试结果 四、结论 本研究成功制备了一系列Mn掺杂ZnO薄膜,并通过X射线衍射、透射电镜和磁性测试等手段对其结构和铁磁性能进行了研究。结果表明,随着Mn掺杂浓度的增加,薄膜的晶粒尺寸变小,并出现了新的晶相。同时,随着Mn掺杂浓度的增加,样品的铁磁性能得到了显著的提高。此外,我们也发现,随着Mn掺杂浓度的增加,薄膜的形貌和磁性都发生了变化,表明Mn掺杂对ZnO薄膜的微观结构和磁性性能有较大的影响。 参考文献: [1]LiuXY,LuoLB,BaiHL,etal.FabricationofMn-dopedZnOnanorodsandtheirmagneticproperties[J].AppliedSurfaceScience,2010,257(6):1938-1941. [2]LiuJ,YuanZ,XiaC,etal.ControllablepreparationandmagneticpropertiesofMn-dopedZnOfilms[J].JournalofAlloysandCompounds,2015,620:361-366. [3]SongY,XieR,ChengS,etal.MagnetismandopticalpropertiesofMn-dopedZnOfilmspreparedbyplasma-enhancedatomiclayerdeposition[J].JournalofMagn