射频磁控溅射制备Mn掺杂ZnO薄膜的结构和铁磁性能研究.docx
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射频磁控溅射制备Mn掺杂ZnO薄膜的结构和铁磁性能研究.docx
射频磁控溅射制备Mn掺杂ZnO薄膜的结构和铁磁性能研究摘要:本文采用射频磁控溅射制备了一系列Mn掺杂ZnO薄膜,并对其结构和铁磁性能进行研究。结果发现,随着Mn掺杂浓度的增加,薄膜的晶粒尺寸变小,且出现了新的晶相。同时,随着Mn掺杂浓度的增加,薄膜的磁性能也得到了明显的提高。关键词:射频磁控溅射;Mn掺杂ZnO薄膜;结构;铁磁性能一、引言ZnO是一种重要的半导体材料,具有宽能带隙和高透明性等优良的物理与化学性质,因而在透明电子器件、光电子器件、生物传感器等领域得到了广泛的应用。然而,ZnO本身是非磁性半导
磁控溅射法制备ZnO薄膜与Al掺杂ZnO(AZO)薄膜及其性能研究.docx
磁控溅射法制备ZnO薄膜与Al掺杂ZnO(AZO)薄膜及其性能研究磁控溅射法制备ZnO薄膜与Al掺杂ZnO(AZO)薄膜及其性能研究摘要:ZnO薄膜以其优异的光电性能,在光电器件、太阳能电池、传感器等领域有着广泛应用。本文以磁控溅射法制备了ZnO薄膜和Al掺杂ZnO薄膜(AZO),通过表征其结构、光学和电学性能,并研究了AZO薄膜掺杂浓度对其性能的影响。实验结果表明,AZO薄膜具有优异的透明性和导电性。1.引言ZnO是一种重要的宽带隙半导体材料,其具有优良的电子传导性能和宽波段透明性。磁控溅射法制备ZnO
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射频磁控溅射法ZnO薄膜制备工艺的优化射频磁控溅射法是一种常用于制备氧化锌(ZnO)薄膜的技术。在此技术中,通过使用高频射频电场和磁控场,将靶材中的ZnO物质溅射到基底表面形成薄膜。然而,制备过程中存在一些问题,如薄膜的结晶性能、粘附性能和光学性能不稳定等。因此,优化射频磁控溅射法的制备工艺对于获得高质量的ZnO薄膜至关重要。首先,制备ZnO薄膜的关键是选择合适的溅射参数。其中,溅射功率、气压、底座温度和溅射时间等参数是影响薄膜质量的重要因素。通过调节溅射功率,可以控制靶材表面溅射速率,从而影响薄膜的厚度
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磁控溅射法制备掺杂ZnO功能薄膜材料.docx
姓名:严希演班级:应用物理071学号:成绩:材料物理实验报告实验时间年月日[实验名称]磁控溅射法制备掺杂ZnO功能薄膜材料[实验目的]掌握多靶磁控溅射镀膜机的使用方法,利用多靶磁控溅射镀膜机制备掺杂ZnO薄膜。熟悉常用的材料表征方法表征薄膜结构、力学、电学、光学性能。培养学生自主动手及创新能力。[实验仪器]磁控溅射溅射法沉积薄膜的原理是:利用被电离的离子在电场中加速后具有一定动能的特点,将离子引向溅射的靶电极,在入射离子能量合适的情况下,将靶表面的原子溅射出来。这些被溅射出来的原子将带有一定的动能,并且会