磁控溅射法制备ZnO薄膜与Al掺杂ZnO(AZO)薄膜及其性能研究.docx
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磁控溅射法制备ZnO薄膜与Al掺杂ZnO(AZO)薄膜及其性能研究.docx
磁控溅射法制备ZnO薄膜与Al掺杂ZnO(AZO)薄膜及其性能研究磁控溅射法制备ZnO薄膜与Al掺杂ZnO(AZO)薄膜及其性能研究摘要:ZnO薄膜以其优异的光电性能,在光电器件、太阳能电池、传感器等领域有着广泛应用。本文以磁控溅射法制备了ZnO薄膜和Al掺杂ZnO薄膜(AZO),通过表征其结构、光学和电学性能,并研究了AZO薄膜掺杂浓度对其性能的影响。实验结果表明,AZO薄膜具有优异的透明性和导电性。1.引言ZnO是一种重要的宽带隙半导体材料,其具有优良的电子传导性能和宽波段透明性。磁控溅射法制备ZnO
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高温PLD制备Al掺杂ZnO薄膜及其性质研究摘要本文采用高温脉冲激光沉积(PLD)技术,制备了Al掺杂ZnO薄膜,并通过X射线衍射、紫外-可见吸收光谱、场发射扫描电子显微镜等技术对其微观结构、光学性能和场发射性能进行了分析。实验结果表明,Al掺杂ZnO薄膜为多晶结构,掺杂浓度越高,晶体结构明显改变,晶粒尺寸也随之减小;同时,随着掺杂浓度的增加,样品的光吸收边界红移,出现了明显的吸收峰,显示出良好的光学性能;另外,Al掺杂ZnO薄膜的场发射性能也有所提升,达到了较好的场发射效果。关键词:高温PLD;Al掺杂
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磁控溅射法制备Al掺杂ZnO(AZ0)薄膜工艺及其电性能研究的综述报告一、引言Al掺杂ZnO(AZ0)薄膜作为一种新型透明导电氧化物,具有很多优异的物理和化学性质。近年来,AZ0薄膜在透明导电膜、光电子器件、太阳能电池等领域的应用得到了广泛的研究。其中,磁控溅射法制备AZ0薄膜由于其高制备效率、高质量、易于控制等优点而备受关注。本文将对磁控溅射法制备AZ0薄膜工艺优化及其电性能研究进行综述。二、磁控溅射法制备AZ0薄膜磁控溅射法是在真空条件下利用磁场将稳定的固体靶材粉末或块材光电子器件进行互相碰撞溅射,形