通孔刻蚀技术的应用.docx
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通孔刻蚀技术的应用.docx
通孔刻蚀技术的应用在现代电子工业中,通孔技术是不可或缺的技术。经过多年的发展,通孔技术已经成为了一种成熟的电子工艺。通孔刻蚀技术是通孔技术的一种重要手段,具有很好的经济性和实用性,被广泛应用于电子工业中。本文将从通孔技术的发展历程、通孔刻蚀技术的原理和方法、通孔刻蚀技术的应用以及发展前景等方面进行分析和探讨。一、通孔技术的发展历程通孔技术是电子线路板制造的重要技术之一,它起源于20世纪50年代中期。当时,电子设备从机械式到电子式逐渐转化,电子线路板由单面板制造逐渐发展为多层印刷线路板制造。出于在一些特殊应
通孔刻蚀技术的应用的任务书.docx
通孔刻蚀技术的应用的任务书任务书:通孔刻蚀技术的应用一、研究背景随着电子技术的发展,电子产品已成为现代人生活和工作中必不可少的一部分。电子产品的集成度和功能要求不断提高,对电路板制造技术提出了更高的要求。电路板必须具有更精细的线路,更紧密的电气连接,更高的传输速度以及更小的尺寸。在制造中,通孔是一个必不可少的结构。通孔作为电路板的主要连接方式,在电子技术的制造和应用中具有重要意义。在传统的制造中,通孔需要通过机械钻孔的方式来创造。但是,钻孔的精度和质量保证并不高,同时会在电路板上增加不必要的物理加工过程,
通孔刻蚀方法.pdf
本发明揭示了一种通孔刻蚀方法,该方法包括:提供半导体基底,所述半导体基底上依次形成有金属互连线、阻挡层以及介质层;在所述介质层上形成具有通孔图形的光阻层;以所述具有通孔图形的光阻层为掩膜,刻蚀部分所述介质层以形成开口;利用氧气等离子灰化工艺去除所述具有通孔图形的光阻层;继续刻蚀所述开口内的剩余的介质层和所述阻挡层,直至暴露出所述金属互连线,以形成通孔。本发明在以具有通孔图形的光阻层为掩膜进行刻蚀时,仅刻蚀掉部分介质层而保留一部分的介质层以及全部阻挡层,以阻挡铜与氧气接触发生氧化反应,防止在金属互连线表面形
改善通孔刻蚀残留的方法.pdf
本发明提供了一种改善通孔刻蚀残留的方法,在金属硬质掩模一体化刻蚀之后,包括:对刻蚀腔体的侧壁进行轰击,以使所述刻蚀腔体内的金属副产物及非金属副产物游离;向所述刻蚀腔体内通入第一反应气体,所述第一反应气体与所述金属副产物反应后生成第一反应物附着在所述刻蚀腔体的侧壁上;对所述刻蚀腔体的侧壁再次进行轰击,以使所述刻蚀腔体内的所述非金属副产物游离;向所述刻蚀腔体内通入第二反应气体,所述第二反应气体与所述非金属副产物反应后生成第二反应物附着在所述刻蚀腔体的侧壁上;对所述第一反应物及所述第二反应物的表面进行处理,以修
一种通孔刻蚀方法.pdf
一种通孔刻蚀方法,包括:提供一半导体衬底,所述半导体衬底表面具有介质层;在所述介质层表面形成牺牲层;图案化所述牺牲层并在所述牺牲层中形成开口以界定通孔位置;以所述图案化的牺牲层为掩膜,执行第一各向异性干法刻蚀制程,刻蚀所述介质层至暴露出或接近所述衬底表面,在所述介质层中刻蚀通孔;执行一各向同性干法刻蚀制程,扩大所述牺牲层中开口的尺寸;以所述开口扩大后的牺牲层为掩膜,执行第二各向异性干法刻蚀制程,并过刻蚀形成酒杯状轮廓的通孔;去除所述牺牲层。本发明的优点在于所制备的通孔底部尺寸的控制会比较精确;