基于Li掺杂ZnO薄膜阻变存储器的特性研究的任务书.docx
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基于Li掺杂ZnO薄膜阻变存储器的特性研究.docx
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铜掺杂氧化锌薄膜阻变特性的研究铜掺杂氧化锌薄膜阻变特性的研究摘要:铜掺杂氧化锌薄膜具有阻变特性,该研究旨在探究铜掺杂浓度对氧化锌薄膜阻变特性的影响。通过化学沉积法制备不同浓度的铜掺杂氧化锌薄膜,并使用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、电阻仪等对薄膜进行物性测试。研究结果表明,随着铜掺杂浓度的增加,氧化锌薄膜的晶体结构发生变化,表面形貌发生明显变化。在一定范围内,铜掺杂可以显著提高氧化锌薄膜的阻变特性。该研究为铜掺杂氧化锌薄膜的应用提供了理论依据。关键词:铜掺杂;氧化锌;薄膜;阻变特性;化学沉积法;晶体结构引言