低能正负电子致Pb和Bi的M壳层特征X射线产生截面的测量研究的任务书.docx

低能正负电子致Pb和Bi的M壳层特征X射线产生截面的测量研究的任务书
任务书：
一、研究背景
X射线能够揭示物质的结构和性质，X射线光谱分析以其高精度、高分辨率和准确性，成为固态物理学、材料科学等领域研究材料内部结构和元素组成比较有力的手段。而了解材料内部结构和元素组成对于深入了解材料的性质和应用非常重要。
Pb和Bi元素是常见的重金属元素，Pb被广泛地运用在军事、工业、通讯和民用等领域，Bi则被广泛用于半导体锗晶片、化妆品、医药等领域。研究Pb和Bi元素的X射线特征是非常有意义的。在实际应用中，电子与物质相互作用的过程是十分复杂的，因此低能正负电子致Pb和Bi的M壳层特征X射线产生截面的测量研究具有重要的科学和应用价值。
二、研究目的
本研究的目的是通过测量低能正负电子致Pb和Bi的M壳层特征X射线产生截面，研究低能正负电子对Pb和Bi的影响。具体研究内容包括：
1.研究低能正负电子与Pb和Bi元素之间的相互作用过程。
2.测量低能正负电子致Pb和Bi的M壳层特征X射线产生截面。
3.研究低能正负电子对Pb和BiM壳层特征X射线产生截面的影响。
4.探究低能正负电子致Pb和Bi的X射线特征对材料性质的影响。
三、研究方法
1.建立实验装置：该实验利用一台低能电子束发射装置，产生低能正负电子。电子经过预处理后，垂直轰击Pb和Bi靶，并衰减在靶内，产生X光谱。收集其新的特征X射线，用于壳层结构的表征。
2.测量低能正负电子致Pb和Bi的M壳层特征X射线产生截面：在实验装置完成后，利用X射线光谱仪，测量低能正负电子致Pb和Bi的M壳层特征X射线产生截面。
3.研究低能正负电子对Pb和BiM壳层特征X射线产生截面的影响：测量不同能量的电子对Pb和BiM壳层特征X射线产生截面的影响，比较电子对于两种元素的影响情况。
4.探究低能正负电子致Pb和Bi的X射线特征对材料性质的影响：分析低能正负电子对Pb和Bi的X射线特征对材料性质的影响，如晶格畸变、材料稳定性等。
四、研究意义和预期效果
本研究将深入了解低能正负电子对Pb和Bi元素的影响，揭示低能正负电子与Pb和Bi元素相互作用的机制。同时，测量低能正负电子致Pb和Bi的M壳层特征X射线产生截面，为深入了解材料内部结构和元素组成提供了一种可靠的方法。研究低能正负电子致Pb和Bi的X射线特征对材料性质的影响也可为相关领域的研究提供有益的参考。
预期的具体研究结果如下：
1.确定低能正负电子与Pb和Bi元素之间的相互作用过程。
2.测量低能正负电子致Pb和Bi的M壳层特征X射线产生截面。
3.探究低能正负电子致Pb和Bi的X射线特征对材料性质的影响，如晶格畸变、材料稳定性等。
4.提供一种新的测量方法，研究低能正负电子与其它材料的相互作用。
五、研究计划
本实验将于2022年4月开始，整个实验计划分三个月完成。具体计划如下：
第一步：建立实验装置，包括低能电子束发射装置和X射线光谱仪等设备。完成时间为一个月。
第二步：测量低能正负电子致Pb和Bi的M壳层特征X射线产生截面，并比较不同能量电子对产生截面的影响情况。完成时间为一个月。
第三步：分析低能正负电子致Pb和Bi的X射线特征对材料性质的影响，并总结本研究的结论和发现。完成时间为一个月。
六、预计经费
本研究预计经费为70万元。主要包括实验设备购置费用、耗材费用和人员开支费用等。其中实验设备购置费用占预计经费的60%，耗材费用占预计经费的25%，人员开支费用占预计经费的15%。
七、研究团队
本研究团队由两位教授和两位博士生组成。教授们分别负责设备的选择与调试、实验设计和数据分析等工作。博士生们分别完成实验过程和数据处理等工作。同时，研究团队也将邀请相关领域的专家参与研究，提供指导和意见。