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基于PIN的IMOS与TFET器件研究的任务书 任务书 题目:基于PIN的IMOS与TFET器件研究 目的: 1.了解PIN-IMOS和TFET器件的基本原理和性能特点; 2.掌握PIN-IMOS和TFET器件的制备方法和优缺点; 3.研究两种器件在不同场合下的应用。 内容: 1.PIN-IMOS器件的研究 (1)原理及性能特点:介绍PIN-IMOS器件的工作原理和器件的特性,重点讲解其性能参数。详细说明主体结构,如电子掺杂层、隔离层等的组成结构和作用以及引出电极等。 (2)制备方法:介绍制备PIN-IMOS器件的方法,包括工艺步骤、制备条件和所需设备。并探讨各种制备方法的优缺点和适用范围。 (3)应用研究:探究PIN-IMOS的应用领域,分析其在功率放大器、开关、线性放大器、计时电路等方面的应用。对于PIN-IMOS在以上领域中的特性、优缺点以及优化方法进行详尽讨论。 2.TFET器件的研究 (1)原理及性能特点:介绍TFET器件的工作原理和器件的特性,重点讲解其性能参数。详细说明主体结构,如源极、栅极、漏极等的组成结构和作用以及引出电极等。 (2)制备方法:介绍制备TFET器件的方法,包括工艺步骤、制备条件和所需设备。并探讨各种制备方法的优缺点和适用范围。 (3)应用研究:探究TFET的应用领域,分析其在低电压、低功耗电路、能源收集、荧光传感等方面的应用。对于TFET在以上领域中的特性、优缺点以及优化方法进行详尽讨论。 3.两种器件的比较分析 对于PIN-IMOS和TFET两种器件进行对比分析,判断它们在不同应用领域的优点和缺点。通过对比,得出各自的应用范围及发展趋势。 参考文献: 1.ZhipengWei,etal.Dual-gateddoped-channelTunnelFET:self-consistentmodelingandexperimentalimplementation.IEEETransactionsonNanotechnology,2015,14(5):910-916. 2.AhmedMMasoudi,etal.DoublegatePINFinFETforlowstandbypowerapplications.SolidStateElectronics,2018,146:30-38. 3.ZhiyuanLi,etal.Impactofchannelchargedistributiononcross-pointselectorbasedonp-i-ndiodesin3DverticalRRAM.JournalofPhysicsD:AppliedPhysics,2018,51(22):225102. 4.WeiliangLi,etal.Advancedp-i-ndiode-basedprobingsystemforP-bandmicrostriparrayantenna.IEEETransactionsonAntennasandPropagation,2016,64(8):3749-3753. 5.JongmyeongShin,etal.Dual-channelbilayerMoS2p-i-ntunnelFETwithahighon/offratio.AppliedPhysicsLetters,2018,113(5):053101.