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汇报人:/目录0102离子束刻蚀技术介绍离子束刻蚀过程离子束刻蚀的优点03膜厚均匀性的定义膜厚不均匀的影响提高膜厚均匀性的方法04研究背景和意义研究方法和实验设计研究结果和讨论与其他技术的比较05在集成电路制造中的应用在光学薄膜制备中的应用在其他领域的应用前景06研究结论研究的不足之处未来研究方向汇报人: