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射频等离子体化学气相沉积制备硅基发光薄膜的过程和性能研究.pptx
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汇报人：/目录0102射频等离子体化学气相沉积法的原理硅基发光薄膜：主要材料，用于制备发光薄膜射频等离子体化学气相沉积系统：主要设备，用于制备硅基发光薄膜真空泵：用于抽真空，保证实验环境温度控制器：用于控制反应温度气体流量计：用于控制反应气体的流量压力计：用于测量反应压力光学显微镜：用于观察薄膜的形貌和结构光谱仪：用于测量薄膜的光学性能电化学工作站：用于测量薄膜的电化学性能热重分析仪：用于测量薄膜的热稳定性能拉曼光谱仪：用于测量薄膜的拉曼光谱X射线衍射仪：用于测量薄膜的晶体结构电子探针：用于测量薄膜的元素
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