管式PECVD工艺对太阳电池镀膜颜色均匀性的影响研究.pptx
快乐****蜜蜂
亲,该文档总共22页,到这已经超出免费预览范围,如果喜欢就直接下载吧~
相关资料
管式PECVD工艺对太阳电池镀膜颜色均匀性的影响研究.pptx
汇报人:/目录01PECVD工艺原理管式PECVD设备结构管式PECVD工艺特点02颜色均匀性对太阳电池性能的影响颜色均匀性对太阳电池外观的影响太阳电池镀膜颜色均匀性的评价方法03管式PECVD工艺参数对颜色均匀性的影响管式PECVD工艺中颜色均匀性的变化规律管式PECVD工艺对太阳电池性能的影响04优化管式PECVD工艺参数改进管式PECVD设备结构引入新的镀膜技术05管式PECVD工艺对太阳电池镀膜颜色均匀性的影响总结对未来研究的展望汇报人:
管式PECVD镀膜均匀性的研究.pptx
添加副标题目录PART01技术背景和发展历程PECVD镀膜技术原理管式PECVD设备结构和工作原理PART02反应气体浓度分布反应气体流量控制反应温度和时间基片旋转和移动速度PART03优化反应气体浓度分布精确控制反应气体流量精确控制反应温度和时间优化基片旋转和移动速度PART04实验设备和方法实验结果和数据分析结果与理论预测的对比分析PART05研究结论对管式PECVD镀膜技术发展的影响未来研究方向和展望感谢您的观看
管式PECVD镀膜均匀性的研究.docx
管式PECVD镀膜均匀性的研究管式PECVD镀膜均匀性的研究摘要:管式PECVD是一种常用的电化学气相沉积技术,在半导体和光电子等领域中得到广泛应用。然而,由于其特殊结构的限制,管式PECVD镀膜均匀性问题一直受到研究者的关注。本文通过对管式PECVD镀膜均匀性的分析和研究,总结出了影响管式PECVD镀膜均匀性的关键因素,并提出了改善镀膜均匀性的方法。1.引言电化学气相沉积(PECVD)是一种常用的薄膜制备技术,具有低温、无需真空等优点,在半导体、光电子和显示器件等领域被广泛应用。而管式PECVD是一种将
管式PECVD硅片颜色值预测方法及镀膜时间控制方法.pdf
本发明揭示一种管式PECVD硅片颜色值预测方法及镀膜时间控制方法,包括以下步骤:采集炉管的运行大数据,构建大数据训练集,所述运行大数据包括炉管参数、镀膜工艺参数和硅片颜色值y,所述镀膜工艺参数包括镀膜时间t;以所述炉管参数和镀膜工艺参数为输入,以硅片颜色值为输出,通过机器学习算法对所述大数据训练集进行训练,得到映射函数y=f(x);以包括k倍的镀膜时间t的炉管参数和镀膜工艺参数为输入,以硅片颜色值y为输出,构建硅片颜色值预测模型,其中0.5<k<0.9,技术效果:基于炉管的运行大数据实现实时地预测在镀膜过
管式PECVD镀膜时间自动生成方法.pdf
本发涉及一种管式PECVD镀膜时间自动生成方法。本发明的方法中,正常镀膜生产过程中,设定一个目标膜厚值Th,a.设定一个参与自动计算的舟的轮数值m;第1舟的镀膜时间设定为T1,第m舟的镀膜时间Tm=Th×(Tm-1+Tm-2…+T1)/(Thm-1+Thm-2…+Th1);b.第m舟镀膜完成后的第n舟镀膜时间Tn=Th×(Tn-1+Tn-2…+Tn-m)/(Thn-1+Thn-2…+Thn-m)。本发明能够通过软件编程,自动计算单个石墨舟前若干轮镀膜的平均膜厚,并及时将计算数值与设定膜厚进行对比,通过计算