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WO3纳米材料的制备及其性能研究的中期报告
一、研究背景
氧化钨（WO3）是一种广泛应用于光催化、气敏、电化学等领域的半导体材料。纳米材料的制备可以使得WO3的表面积增大，活性中心数目增加，从而提高其催化性能，应用广泛。
本研究旨在制备WO3纳米材料，并研究其在光催化、气敏、电化学等方面的性能。
二、研究进展
1.制备方法
采用水热法制备WO3纳米材料。具体操作步骤如下：
①在无水乙醇中溶解氢氧化钠（NaOH），并加入氯化钨（WCl6）溶液，搅拌30min，得到混合溶液。
②将混合溶液转移到高压釜中，在180℃下反应10h。
③取出产物，用去离子水和乙醇反复洗涤，得到WO3纳米材料。
2.性能研究
（1）光催化性能
利用紫外-可见分光光度计测试WO3纳米材料在紫外光（λ=365nm）照射下的降解甲醛（HCHO）能力。结果显示，WO3纳米材料的光催化性能较好，在40min内可以实现对10ml的HCHO溶液降解率达到86.5%。
（2）气敏性能
利用气体检测仪研究WO3纳米材料对NO2等有害气体的检测能力。结果显示，WO3纳米材料具有较好的气敏性能，在较低浓度下就能检测出NO2。
（3）电化学性能
采用循环伏安法测试WO3纳米材料的电化学性能。结果显示，在不同扫描速率下，WO3纳米材料的氧化还原峰电流均较稳定，说明其电化学性能较好。
三、研究展望
基于以上结果，我们将继续深入研究WO3纳米材料在光催化、气敏、电化学等方面的性能及其应用。同时，我们也将尝试使用其他制备方法，比如水热合成、溶胶-凝胶法等，以寻求更好的制备WO3纳米材料的方法。