低光泽的聚酰亚胺膜及其制造方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106957445A(43)申请公布日2017.07.18(21)申请号201610947719.5(22)申请日2016.10.26(30)优先权数据1051336672016.10.19TW(71)申请人达迈科技股份有限公司地址中国台湾新竹县新埔镇文德路三段127号(72)发明人钟文轩(74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任公司11021代理人任岩(51)Int.Cl.C08J5/18(2006.01)C08L79/08(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图2页(54)发明名称低光泽的聚酰亚胺膜及其制造方法(57)摘要本发明提供一种低光泽的聚酰亚胺膜及其制造方法，其包括有提供一二胺单体与二酐单体进行聚合的聚酰胺酸及溶剂，以形成一聚酰亚胺前驱体溶液；将该聚酰亚胺前驱体溶液形成于一载体上，以形成一聚酰亚胺湿膜；将该聚酰亚胺湿膜在100℃以上，压力1kg以上的压花滚轮上辗压，使其表面形成有规则的凹凸形状；及将该聚酰亚胺湿膜进行高温烘烤，以形成一聚酰亚胺膜。该聚酰亚胺膜包括于其表面形成规则的凹凸形状；及一消光剂，其是添加于该聚酰亚胺膜内，使该聚酰亚胺膜具有小于60度的光泽值。CN106957445ACN106957445A权利要求书1/1页1.一种低光泽的聚酰亚胺膜制造方法，包括：提供一二胺单体与二酐单体进行聚合的聚酰胺酸及溶剂，以形成一聚酰亚胺前驱体溶液；将该聚酰亚胺前驱体溶液形成于一载体上，以形成一聚酰亚胺湿膜；将该聚酰亚胺湿膜在温度100℃以上，压力1kg以上的压花滚轮上辗压，使其表面形成有凹凸形状；及将该聚酰亚胺湿膜进行高温烘烤，以形成一聚酰亚胺膜。2.根据权利要求1所述的低光泽的聚酰亚胺膜制造方法，其中，该聚酰胺酸由选自4,4'-二胺基二苯醚(4,4'-ODA)、对苯二胺(p-PDA)、2,2’-双(三氟甲基)联苯胺(TFMB)所组成群组的二胺及选自由均苯四甲酸二酐(PMDA)、3,3',4,4'-联苯四羧酸二酐(BPDA)、2,2-双[4-(3,4-二羧基苯氧基)苯基]丙烷二酐(BPADA)所组成群组的二酐反应而得。3.根据权利要求1所述的低光泽的聚酰亚胺膜制造方法，其中，该压轮是在温度160-190℃，压力为4-8KG下操作。4.根据权利要求1所述的低光泽的聚酰亚胺膜制造方法，其中，该聚酰亚胺前驱体溶液的溶剂含量为20-50％。5.根据权利要求1所述的低光泽的聚酰亚胺膜制造方法，其中，该聚酰亚胺前驱体溶液更包括有消光剂，使该聚酰亚胺膜具有60度以下的光泽值。6.根据权利要求1所述的低光泽的聚酰亚胺膜制造方法，其中，该聚酰亚胺前驱体更包括有可单独使用或组合使用的黑色颜料，使该聚酰亚胺膜具有60度以下的光泽值，该黑色颜料包括碳黑、钛黑、骨炭(boneblack)、花青黑(cyanineblack)、乙炔黑、灯黑、石墨、铁黑、苯胺黑、花菁黑。7.根据权利要求1所述的低光泽的聚酰亚胺膜制造方法，其中，压轮表面形成有凹凸形状。8.一种低光泽的聚酰亚胺膜，其包括有：一聚酰亚胺膜，其是由二胺单体及二酐单体聚合而得，其表面形成有规则的凹凸形状；及一消光剂，其添加于该聚酰亚胺膜内，使该聚酰亚胺膜具有小于60度的光泽值。9.根据权利要求8所述的低光泽的聚酰亚胺膜，其中更包括有可单独使用或组合使用的黑色颜料，所述黑色颜料包括碳黑、钛黑、骨炭(boneblack)、花青黑(cyanineblack)、乙炔黑、灯黑、石墨、铁黑、苯胺黑、花菁黑。10.根据权利要求8所述的低光泽的聚酰亚胺膜，其中，该消光剂为聚酰亚胺粉体。2CN106957445A说明书1/4页低光泽的聚酰亚胺膜及其制造方法技术领域[0001]本发明是关于一种低光泽的聚酰亚胺膜的制造方法，特别是指一种以压花滚轮辗压方式于聚酰亚胺湿膜上形成凹凸表面，再行加热干燥后成为低光泽的聚酰亚胺膜。背景技术[0002]可挠性铜箔积层板(Flexiblecoppercladlaminate,FCCL)是广泛应用于电子产业中作为电路基板(PCB)，FCCL除了具有轻、薄及可挠的优点外，用聚酰亚胺膜还具有电性能及热性能优良的特点外，其较低的介电常数(Dk)性，使得电信号得到快速的传递，良好的热性能，可使组件易于降温，较高的玻璃化温度(Tg)，可使组件在较高的温度下良好运行。[0003]然而，聚酰亚胺膜通常具有高表面平坦度，使得大多数的入射光线被反射而产生高光泽度。又，高光泽度的膜面可能会造成视觉上不舒适或长时间观看时容易使得眼睛疲劳。尤其，具有颜色的高光泽度聚酰亚胺膜，例如：黑色、白色、蓝色、红色等聚酰亚胺薄膜，照射于其表面所产生的大量反射光在视觉上更为显著。另外，低透光性及低光泽度PI膜常用于软性电路板(fl