丝状样品与片状样品混合磁控溅射镀膜设备.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106987819A(43)申请公布日2017.07.28(21)申请号201710306201.8(22)申请日2017.05.04(71)申请人北京创世威纳科技有限公司地址100085北京市海淀区清河龙岗路27号(72)发明人王长梗李江李衍辉(74)专利代理机构北京尚德技研知识产权代理事务所(普通合伙)11378代理人陈晓平(51)Int.Cl.C23C14/35(2006.01)C23C14/50(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图3页(54)发明名称丝状样品与片状样品混合磁控溅射镀膜设备(57)摘要本发明公开一种丝状样品与片状样品混合磁控溅射镀膜设备，该设备包括第一组驱动组件和第二驱动组件，实现丝状样品、片状样品公转和自转。每一组驱动组件都以驱动盘和齿轮为传动件，实现样品的两种运动：某一轴为中心的公转、以各自的轴为中心的自转。公转可以实现样品向镀膜磁控溅射靶靠近，自转可使样品在尽可能少的溅射靶的情况下完成全面溅射，而且该设备可以同台设置多个丝状样品和片状样品，间隔设置，可以充分利用空间，又互不干涉。CN106987819ACN106987819A权利要求书1/1页1.一种丝状样品与片状样品混合磁控溅射镀膜设备，其特征在于：该设备包括第一组驱动组件，所述第一组驱动组件包含上驱动电机、上驱动轴、上驱动盘、下驱动盘，所述上驱动盘与下驱动盘通过连接件连接，所述上驱动电机通过上驱动轴驱动所述上驱动盘和下驱动盘转动；所述上驱动盘、下驱动盘上对应设置穿丝孔，孔中穿接丝状样品，所述丝状样品上设置有驱动小齿轮，所述驱动小齿轮与固定大齿轮啮合；该设备还包括第二组驱动组件，所述第二组驱动组件包括下驱动电机、下驱动轴、大伞齿轮、小伞齿轮、片状样品安装轴；所述下驱动电机通过下驱动轴驱动大伞齿轮旋转，所述大伞齿轮与小伞齿轮啮合，所述小伞齿轮套装在片状样品安装轴上，所述片状样品安装轴安装在所述上驱动盘上，或下驱动盘上，或者上驱动盘与下驱动盘之间的连接件上，随所述上驱动盘和下驱动盘一起旋转；所述片状样品安装轴上安装片状样品。2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于：在所述丝状样品的一端设置有所述驱动小齿轮。3.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于：在所述丝状样品的上、下两端都设置有驱动小齿轮，对应地，所述装置的上、下两端都设置有固定大齿轮与之啮合。4.根据权利要求1或2或3所述的镀膜设备，其特征在于：所述固定大齿轮通过固定座固定。5.根据权利要求1或2或3所述的镀膜设备，其特征在于：所述丝状样品连接在穿丝连接件上，且通过所述穿丝连接件安装所述驱动小齿轮。6.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于：所述下驱动盘沿一环形滑轨旋转。7.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于：在所述上驱动盘与下驱动盘之间，由上驱动盘通过上连接柱连接一中间驱动盘，中间驱动盘通过下连接柱连接到下驱动盘；在中间驱动盘上通过支撑板和轴承安装所述片状样品安装轴。8.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于：所述大伞齿轮与小伞齿轮啮合，将水平面内的旋转运动转变为竖直面内的旋转运动。9.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于：所述丝状样品和片状样品沿所述上驱动盘和下驱动盘的周向布置有多个，且为间隔设置。10.根据权利要求9所述的镀膜设备，其特征在于：多个所述驱动小齿轮同时与对应位置的一个固定大齿轮啮合；多个所述小伞齿轮同时与对应位置的一个大伞齿轮啮合。2CN106987819A说明书1/4页丝状样品与片状样品混合磁控溅射镀膜设备技术领域[0001]本发明属于真空磁控溅射镀膜领域，具体涉及一种丝状样品与片状样品混合磁控溅射镀膜设备。背景技术[0002]在真空镀膜领域，对于半导体、微电子产品往往采用等离子体磁控溅射镀膜。半导体、微电子等产品形状各异，而在磁控溅射镀膜机实验设备中，为节省成本，往往需要多名实验人员共用一台实验设备，而实验人员的研究方向各异，镀膜样品有丝状样品(如金属丝、热电偶、光纤等)、片状样品两种常见形态，如果实验设备的功能单一，就会造成实验成本的提升，给实验人员操作带来麻烦。现有的设备都停留在单一化用途中，结构简单。发明内容[0003]本发明主要是提供一种既能适应丝状样品镀膜，也能适应片状样品镀膜的混合磁控溅射镀膜设备，该类设备能够实现在一台设备上既能对丝状样品镀膜，同时又能对片状样品镀膜的需求，节省了时间和物质成本，增强了资源利用。[0004]本发明所采取的技术方案如下：一种丝状样品与片状样品混合磁控溅射镀膜设备，该设备包括第一组驱动组件，所述第一组驱动组件包含上驱动电机、上驱动轴、上驱动盘、下驱动盘，所述上驱动盘与下驱动盘通过连接件连接，所述上驱动电机通过上驱动轴驱动所