用于处理腔室的陶瓷涂覆的石英盖体.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107574421A(43)申请公布日2018.01.12(21)申请号201710620229.9H01L21/67(2006.01)(22)申请日2017.04.28(30)优先权数据62/328,6862016.04.28US(62)分案原申请数据201710294635.02017.04.28(71)申请人应用材料公司地址美国加利福尼亚州(72)发明人伯纳德·L·黄(74)专利代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司11006代理人徐金国赵静(51)Int.Cl.C23C16/40(2006.01)C23C16/458(2006.01)权利要求书2页说明书7页附图5页(54)发明名称用于处理腔室的陶瓷涂覆的石英盖体(57)摘要本公开内容的实施方式包括用于降低处理腔室内的颗粒产生的方法和设备。在一个实施方式中，本发明提供一种用于基板处理腔室的盖体。盖体包括：盖构件，所述盖构件具有第一表面和与第一表面相对的第二表面；通过所述盖构件的中央开口，其中所述中央开口的内轮廓包括具有第一直径的第一段、具有第二直径的第二段和具有第三直径的第三段，其中第二直径是在第一直径和第三直径之间，且第一直径从第二段朝向盖构件第一表面增加；和沟槽，所述沟槽沿着第一表面中的封闭路径形成且具有形成在沟槽的内表面中的凹槽。CN107574421ACN107574421A权利要求书1/2页1.一种用于基板处理腔室的盖体，包含：盖构件，所述盖构件具有第一表面、与所述第一表面相对的第二表面、内周边表面、和与所述内周边表面相对的外周边表面；通过所述盖构件的开口，所述开口由所述内周边表面界定，所述内周边表面包含具有第一内直径的第一段和具有第二内直径的第二段，所述第一内直径自所述第一表面逐渐减小向所述第二内直径；和沟槽，所述沟槽形成在所述第一表面中，所述沟槽围绕所述开口。2.如权利要求1所述的盖体，其中所述第一段具有相对于垂直穿过所述盖体的中心轴成角度的表面。3.如权利要求2所述的盖体，其中所述角度在约30°和约60°之间。4.如权利要求1所述的盖体，其中所述沟槽进一步包含：形成在所述沟槽的内表面中的凹槽。5.如权利要求4所述的盖体，其中所述凹槽具有斜角，所述斜角沿着相对于所述沟槽的底表面成一角度的方向延伸，所述角度在约15°和约45°之间。6.如权利要求1所述的盖体，其中所述盖构件是由火焰抛光的石英制成。7.如权利要求1所述的盖体，其中所述盖构件由石英制成且所述盖构件的所述第二表面被火焰抛光。8.如权利要求7所述的盖体，其中所述盖构件的所述第二表面具有涂层，所述涂层包含含氧化钇陶瓷或含钇氧化物。9.如权利要求7所述的盖体，其中所述盖构件的所述第二表面具有在约2埃与约150埃之间的平均表面粗糙度。10.如权利要求1所述的盖体，其中所述盖构件是由非火焰抛光的石英制成。11.如权利要求7所述的盖体，其中所述盖构件的所述第二表面具有涂层，所述涂层包含含氧化钇陶瓷或含钇氧化物。12.如权利要求11所述的盖体，其中所述涂层具有约0.001英寸至约0.100英寸的厚度。13.一种处理腔室，包含：主体；基板支撑组件，所述基板支撑件设置在所述主体内部；覆盖所述主体的盖体，所述盖体包含：板，所述板具有第一表面、与所述第一表面相对的第二表面、内周边表面、和与所述内周边表面相对的外周边表面；通过所述板的开口，所述开口由所述内周边表面界定，所述内周边表面的一部分具有朝向所述第一表面逐渐增加的内径；和沟槽，所述沟槽形成在所述第一表面中，所述沟槽围绕所述开口；和气体耦合嵌件，所述气体耦合嵌件设置在开口内且具有轴向通孔，所述轴向通孔形成在所述气体耦合嵌件的底部中。14.如权利要求13所述的处理腔室，其中所述沟槽具有形成在所述沟槽的内表面中的凹槽。15.如权利要求14所述的处理腔室，其中所述凹槽被斜切以便所述内表面的一部分沿2CN107574421A权利要求书2/2页着相对于所述沟槽的底表面成一角度的方向延伸，所述角度在约15°和约45°之间。16.如权利要求13所述的处理腔室，其中所述板是由火焰抛光的石英制成，且所述板的所述第二表面具有涂层，所述涂层包含含氧化钇的陶瓷或含钇的氧化物。17.如权利要求13所述的处理腔室，其中所述板的所述第二表面具有在约2埃与约150埃之间的平均表面粗糙度。18.如权利要求13所述的处理腔室，其中所述板是由非火焰抛光的石英制成，且所述板的所述第二表面具有涂层，所述涂层包含含氧化钇的陶瓷或含钇的氧化物。19.如权利要求13所述的处理腔室，进一步包含：间隔环，所述间隔环设置在所述盖体和所述气体耦合嵌件之间的界面处，其中所述间隔环具有与所述盖体和所述气体耦合嵌件之间的界面匹配的形状。20.如权利