斜角沉积法制备SERS基底的研究与应用的任务书.docx
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硅纳米洞线的制备及应用于SERS基底的研究的综述报告硅纳米洞线是一种具有微米级别的电子毛细结构,其在表面增强拉曼光谱(SERS)技术中具有广泛的应用。本文将对硅纳米洞线的制备和其在SERS基底中的应用进行综述。硅纳米洞线制备方法的多样性:硅纳米洞线的制备方法有多种,如金属阴极溅射、光刻、湿化学蚀刻等。其中,湿化学蚀刻法是一种常用的方法,其在表面处理和模板制备方面具有广泛的应用。这种方法通常包括以下步骤:先使用金刚石切割机将硅片切割成所需大小,然后使用漆横放置样品,保证其平稳,并在硅片表面涂上不同厚度的光刻