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冶金法去除工业硅中杂质的研究的任务书
任务书
课题名称：冶金法去除工业硅中杂质的研究
任务来源：本课题为工业界委托课题，任务来源为委托单位。
研究目的：本课题旨在研究冶金法去除工业硅中杂质的技术及工艺，提高工业硅的纯度和质量，推动工业硅行业的发展。
研究内容：
1.调查国内外工业硅中杂质的种类、含量及其对工业硅质量的影响。
2.研究采用冶金法去除工业硅中杂质的技术及工艺，并对其效果进行评价。其中包括：
（1）选择合适的炉型和工艺流程，制定熔炼条件，包括温度、时间、压力等参数。
（2）优化冶金法去除杂质的反应体系，研究原料配比、添加剂种类和用量等因素对杂质去除效果的影响。
3.研究冶金法去除杂质后对工业硅基本性质的影响，如晶体结构、晶格常数、晶形、导电性能等。
4.通过实验室小样试验，对研究成果进行初步验证，确定技术工艺的可行性。
5.撰写研究报告，总结研究成果，提出下一步研究方向和建议。
研究需求：
1.实验室和设备：配有熔炼设备、实验室炉具、物化分析仪器以及电子显微仪等实验设备。
2.研究材料：不同含杂工业硅样品，冶金矿物、添加剂等。
3.人员需求：配备一名硕士研究生，主要参与技术开发和实验室试验工作；一名导师，主要指导研究生的研究工作。
4.研究时间：本课题的研究时间为一年。
成果要求：
1.提出冶金法去除工业硅中杂质的技术及工艺方案，并给出实验数据和结果。
2.发表学术论文1篇，参加学术会议1次。
3.撰写研究报告1份，包含研究成果总结、分析、评价和展望。