一种磁流变抛光方法及设备.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108032148A(43)申请公布日2018.05.15(21)申请号201711486782.4(22)申请日2017.12.29(71)申请人广东工业大学地址510006广东省广州市番禺区大学城外环西路100号(72)发明人潘继生郑坤阎秋生罗斌(74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限公司11227代理人罗满(51)Int.Cl.B24B1/00(2006.01)B24B41/04(2006.01)B24B47/12(2006.01)B24B57/00(2006.01)权利要求书1页说明书9页附图10页(54)发明名称一种磁流变抛光方法及设备(57)摘要本发明提供一种磁流变抛光方法，应用于磁流变抛光设备，该设备包括：磁抛光轮，所述磁抛光轮设有磁铁；该方法包括：S11:获取加工对象；S12:根据所述加工对象的形状，对所述磁铁的形状进行修整，以使所述磁铁的形状与所述加工对象相适应；S13:启动所述磁流变抛光设备，驱动所述磁抛光轮对所述加工对象进行抛光处理。本发明提供的方法能够根据不同的加工对象的形状，对磁铁进行修整，从而能够对不同形状的加工对象进行抛光，以实现大平面工件和非自由曲面等不同形状工件表面的高效超光滑加工，能够对曲面进行加工，适应加工对象的形状变化。本发明还提供一种磁流变抛光设备，能够实现上述方法，也具有同样的有益效果，在此不再赘述。CN108032148ACN108032148A权利要求书1/1页1.一种磁流变抛光方法，应用于磁流变抛光设备，该设备包括：磁抛光轮，所述磁抛光轮设有磁铁；该方法包括：S11:获取加工对象；S12:根据所述加工对象的形状，对所述磁铁的形状进行修整，以使所述磁铁的形状与所述加工对象相适应；S13:启动所述磁流变抛光设备，驱动所述磁抛光轮对所述加工对象进行抛光处理。2.根据权利要求1所述的磁流变抛光方法，其特征在于，在步骤S11之后，在步骤S13之前，还包括：根据所述加工对象的形状，对所述磁抛光轮的抛光部的形状进行修整，以使所述磁抛光轮的抛光部形状与所述加工对象相适应。3.根据权利要求1所述的磁流变抛光方法，其特征在于，在步骤S11之后，在步骤S13之前，还包括：根据所述加工对象的尺寸，设置所述磁抛光轮的数量。4.根据权利要求1所述的磁流变抛光方法，其特征在于，在步骤S11之后，在步骤S13之前，还包括：根据所述加工对象的尺寸，设置所述磁抛光轮中磁铁的数量。5.根据权利要求4任所述的磁流变抛光方法，其特征在于，所述根据所述加工对象的尺寸，设置所述磁抛光轮中磁铁的数量，包括：根据所述加工对象的尺寸，向所述磁抛光轮中增减非磁性垫片的数量以及磁铁的数量，以使磁抛光轮的有效抛光部与所述加工对象的尺寸相符。6.根据权利要求1所述的磁流变抛光方法，其特征在于，所述磁铁，包括N个子磁铁；所述步骤S12包括：调整N个所述子磁铁的位置，以使所述磁铁的形状与所述加工对象相适应。7.一种磁流变抛光设备，其特征在于，包括：磁抛光轮，所述磁抛光轮设有磁铁；所述磁铁包括N个子磁铁，其中N为正整数。8.根据权利要求7所述的磁流变抛光设备，其特征在于，N个所述子磁铁为圆柱状结构、圆环结构或者半圆环结构。9.根据权利要求7所述的磁流变抛光设备，其特征在于，N个所述子磁铁呈阵列排布。10.根据权利要求7至9任一项所述的磁流变抛光设备，其特征在于，N个所述子磁铁排布为端面边缘加强永磁铁、内凹弧状修形永磁铁、端面圆弧修形永磁铁、端面倒角永磁铁或外凸弧状修形永磁铁。2CN108032148A说明书1/9页一种磁流变抛光方法及设备技术领域[0001]本发明涉及精密加工技术领域，特别涉及一种磁流变抛光方法及设备。背景技术[0002]随着信息产业和光电产业的发展及光电技术的融合，光学元件的应用越来越广泛，对光学元器件的加工精度要求越来越高，其表面精度需要达到超光滑程度(粗糙度Ra达到1nm以下)，面形精度也有较高的要求(形状精度达到0.5微米以下)。因此光学元件表面的超光滑抛光成为超精密加工技术的一个新挑战。[0003]为解决光学元件表面高效精密抛光问题，上世纪90年代初KORDONSKI及其合作者将电磁学、流体动力学、分析化学等相结合提出了一种新型的光学表面加工方法-磁流变抛光技术(MRF)。该方法具有抛光效果好、不产生压表面损伤、适合复杂表面加工等传统抛光所不具备的优点，已发展成为一种革命性光学表面最终加工方法，特别适合轴对称非球面的超精密加工。目前采用磁流变抛光方法对平面工件进行加工时，主要以美国QED公司研制的各种型号磁流变机床为主，其原理是将加工工件置于磁抛光轮的正上方，工件表面与磁抛光轮之间形成一个凹形间隙，并在磁抛光轮下方布置一个磁极，使之在凹