n型4HSiC欧姆接触的研究的任务书.docx
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n型4HSiC欧姆接触的研究的任务书.docx
n型4HSiC欧姆接触的研究的任务书研究目标:研究n型4HSiC(碳化硅)欧姆接触的制备方法和性能特征,探究其在功率电子器件中的应用potential。研究内容:1.了解碳化硅材料的性质、制备及其在功率电子器件领域的应用;2.研究n型4HSiC材料性质,并选定符合要求的实验材料;3.选取合适的制备方法,制备欧姆接触样品;4.分析、测试样品的电学特性、结构特性及表面特性;5.测试样品的导电性和电导率;6.研究不同制备工艺和工作条件对欧姆接触性能的影响;7.分析和挖掘碳化硅材料的其他潜在应用。研究方法:1.文
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n型4HSiC欧姆接触的研究的中期报告该研究旨在探究n型4H硅碳化物(4HSiC)欧姆接触特性,并开发新型高性能n型4HSiC欧姆接触。本文为该研究的中期报告。首先,我们使用光刻和胶体颗粒蚀刻等工艺制备了n型4HSiC样品。接着,通过脉冲激光沉积技术(PLD)制备了Ti/Al金属电极,这种电极在其他研究中已被证明可形成稳定的欧姆接触。我们对Ti/Al电极进行了SEM和AFM表征,发现其表面粗糙度较小且Ti和Al的分布均匀。接下来,我们使用I-V测试和Kelvin接触电阻测试仪对样品进行测试。结果显示Ti/
GePtAu,GeAuNiAu—n型GaAs欧姆接触的对比研究.docx
GePtAu,GeAuNiAu—n型GaAs欧姆接触的对比研究概述n型GaAs欧姆接触是一种重要的微电子学研究领域,其具有广泛的应用,包括太阳能电池、半导体激光器等。本文针对两种n型GaAs欧姆接触GePtAu和GeAuNiAu进行了对比研究,探索它们的优缺点、应用场景等方面,为相关领域的研究提供参考。GePtAu和GeAuNiAu的优缺点对比GePtAu和GeAuNiAu都是n型GaAs欧姆接触材料,它们具有许多相似之处,例如二者都能形成较低的接触电阻、有较高的热稳定性、抗氧化等优点。但是它们之间却存在
N i 基n型SiC 材料的欧姆接触机理及模型研究.pdf
第28卷第1期固体电子学研究与进展Vol.28,No.12008年3月RESEARCH&PROGRESSOFSSEMar.,2008宽禁带半导体XNi基n型SiC材料的欧姆接触机理及模型研究郭辉XX张义门张玉明吕红亮(西安电子科技大学微电子学院,西安,710071)(教育部宽禁带半导体材料重点实验室,西安,710071)2006204228收稿,2006207224收改稿摘要:研究了Ni基n型SiC材料的欧姆接触的形成机理,认为合金化退火过程中形成的C空位(Vc)而导致的高载流子浓度层对欧姆接触的形成起了
GaN基LED的N极性n型欧姆接触及老化性能研究的任务书.docx
GaN基LED的N极性n型欧姆接触及老化性能研究的任务书任务书任务来源:XXX机电公司任务目的:研究GaN基LED的N极性n型欧姆接触及老化性能,以改善其光电性能和使用寿命。项目背景:GaN基LED具有高亮度、高效率、长寿命等优点,已经广泛应用于照明、显示、通信等领域。其中,n型欧姆接触是GaN基LED中极为关键的一个元件,对其电学性能和光电转换效率有着直接的影响。目前,GaN基LED的n型欧姆接触面临着一系列问题,如电流分布不均、热稳定性较差、老化后电学性能变差等。因此,有必要对GaN基LED的n型欧姆