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基于PZT厚膜的MEMS微变形镜的中期报告
背景：
微电子机械系统（MEMS）的研究与应用日益广泛，微变形镜是其中一个重要领域。基于微变形镜的构造和工作方式，可以将其用于各种光学应用中，如自适应光学、显示技术、激光成像等。PZT（铅锆钛石）是一种常用的压电材料，因为它具有高的压电系数和优异的热机械稳定性，因此被广泛应用于MEMS微变形镜的制造中。
方法：
本研究采用PZT厚膜+铜片基底的制备方法，通过控制不同膜厚和不同工艺参数来制备出不同尺寸和形状的PZT厚膜。接着，在基底上制备一个微结构，使得PZT厚膜与其直接连接，并形成微变形镜的结构。通过与光学系统的耦合测试，可以对微变形镜的性能进行评测和优化。
结果：
在测试中，我们发现PZT厚膜的膜厚和铜片基底的尺寸和形状对微变形镜的性能影响很大。较大的膜厚和较小的基底尺寸可以提高微变形镜的灵敏度，但同时也会增加电压驱动的复杂性和耗能量。我们研究发现，在保证适当的灵敏度和功耗的前提下，使用较小的PZT厚膜和适当尺寸的铜片基底最为合适。
结论：
通过对PZT厚膜+铜片基底的制备和性能测试，我们成功制备出基于PZT厚膜的MEMS微变形镜样品，并得出了优化和制造参数控制方案。这将有助于推进MEMS微变形镜在光学应用中的应用和发展。