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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109073355A(43)申请公布日2018.12.21(21)申请号201780022856.0(74)专利代理机构北京柏杉松知识产权代理事务所(普通(22)申请日2017.04.05合伙)11413代理人谢攀刘继富(30)优先权数据16531582016.04.11FR(51)Int.Cl.G01B9/02(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日G01B11/24(2006.01)2018.10.10G02B21/00(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据G01N21/956(2006.01)PCT/EP2017/0581452017.04.05H01L21/66(2006.01)(87)PCT国际申请的公布数据G01N21/95(2006.01)WO2017/178306FR2017.10.19G01B11/06(2006.01)(71)申请人统一半导体公司地址法国蒙特邦奥圣马尔坦(72)发明人珍-弗朗索瓦·布朗热伯努瓦·图伊权利要求书2页说明书8页附图5页(54)发明名称用于光学检查和测量物体表面的方法和系统(57)摘要本发明涉及用于检查和测量物体表面的方法(100),该表面包括至少两个相对于彼此在深度上交错的面,所述面特别地形成所述表面上/中的阶梯或沟槽,所述方法(100)包括以下步骤:在所述被检查表面的称为测量点的几个点处测量(102)称为被测信号的干涉信号;针对至少一个测量点,相对于至少一个、特别是每个面提取(108)被测信号,所述提取(108)向所述测量点和所述面传递称为单独干涉信号的干涉信号;分别对每个面的单独信号进行轮廓测量分析(110)。本发明还涉及一种实现这种方法的用于检查和测量物体表面的系统。CN109073355ACN109073355A权利要求书1/2页1.一种用于检查和测量物体的表面(200)的方法(100),所述表面包括至少两个相对于彼此在深度上交错的面(202、204),所述面特别地形成所述表面(200)上或所述表面(200)中的阶梯(202)或沟槽(204),所述方法(100)包括以下步骤:-在所述被检查表面(200)的称为测量点的几个点(206)处测量(102)称为被测信号的干涉信号(208);-针对至少一个测量点(206),相对于至少一个、特别是每个面提取(108)被测信号,所述提取(108)为所述测量点提供了针对所述面的称为单独信号的干涉信号(214);-分别对每个面的单独信号(214)进行轮廓测量分析(110)。2.根据前一权利要求所述的方法(100),其特征在于,测量步骤(102)针对执行全场测量的传感器(310)的每个像素测量干涉信号,每个像素对应于测量点(206)。3.根据前述权利要求中任一项所述的方法(100),其特征在于,所述方法还包括根据来自所述面的单独信号(214)的轮廓测量分析来独立地构造每个面的步骤(112)。4.根据前述权利要求中任一项所述的方法(100),其特征在于,所述方法还包括构造被检查表面(200)的表示的步骤(114)。5.根据权利要求3和4所述的方法(100),其特征在于,构造被检查表面(200)的表示的步骤(114)根据面的单独表示来执行,所述步骤(114)包括以下步骤的迭代,对于至少一个测量点(206):-在所述测量点(206)处,确定(118)至少两个单独表示中的信号质量值,和-根据针对所述两个单独表示中的每一个获得的信号质量值,将所述测量点(206)分配(120)给所述面中的一个。6.根据前一权利要求所述的方法(100),其特征在于,通过考虑以下因素的预定比较关系来执行分配步骤(120):-每个单独表示的信号质量值;和-应用于单独表示的信号质量值的乘数系数。7.根据前述权利要求中任一项所述的方法(100),其特征在于,对于至少一个面,轮廓测量分析步骤(110)包括:针对每个单独信号(214),-对所述单独信号进行傅里叶变换;以及-对得到的傅立叶变换的相位(216)进行分析。8.根据前述权利要求中任一项所述的方法(100),其特征在于,对于至少一个面,提取与所述面相关的被测信号(208)的步骤(108)包括选择所述被测信号(108)的一部分,所述部分包括所述被测信号(208)中的对应于所述面的包络(210)。9.根据前一权利要求所述的方法(100),其特征在于,对于不同深度的两个相邻的面,选择步骤将被测信号(208)分割(108)成两部分,每个部分包括所述被测信号(208)中对应于所述面中的一个的包络(210),每个面的单独信号(214)对应于所述部分中的一个。10.根据前一权利要求所述的方法(100),其特征在于,对于两个相邻的包络(21