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ZnO薄膜的制备及其N掺杂性能研究的中期报告
尊敬的评委们，大家好！
我是XXX，我的课题是关于ZnO薄膜的制备及其N掺杂性能研究。在这个阶段，我已经完成了实验的前期准备和大部分实验工作，并对初步结果进行了分析和总结。
首先，我选用了激光分子束外延（MBE）技术制备ZnO薄膜。在实验过程中，我发现通过调整MBE中的蒸发槽温度、衬底表面处理等一系列参数可以控制ZnO薄膜的生长质量和结构。通过扫描电子显微镜（SEM）观察和X射线衍射（XRD）分析，我找到了比较适合制备高质量ZnO薄膜的参数组合。
其次，为了探究N掺杂对ZnO薄膜性能的影响，我采用了掺杂前后的光学、电学等性能测试方法。对于光学性能，我通过紫外可见光谱（UV-Vis）测试了ZnO薄膜的透明度和吸收率的变化；对于电学性能，我利用霍尔效应测量了薄膜的载流子浓度、迁移率以及电阻率等参数。初步结果表明，N掺杂能够有效提高ZnO薄膜的电学性能，但会对其光学性质产生轻微影响。
最后，我对初步实验结果进行了分析和总结。在下一阶段中，我将进一步优化实验参数，探究N掺杂对ZnO薄膜性能的深层次影响，并对实验数据进行进一步处理和分析，以期得到更加准确的结论。
感谢各位评委的关注和支持，期待您们宝贵的指导和建议！