对准标记、基板及其制作方法、曝光对准方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109856930A(43)申请公布日2019.06.07(21)申请号201711242791.9(22)申请日2017.11.30(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司(72)发明人麻清琳赵宝杰周聪慧王丽李坚赵言惠翔王雄伟马春红(74)专利代理机构北京市柳沈律师事务所11105代理人彭久云(51)Int.Cl.G03F9/00(2006.01)权利要求书2页说明书8页附图7页(54)发明名称对准标记、基板及其制作方法、曝光对准方法(57)摘要一种对准标记、基板及其制作方法、曝光对准方法。该对准标记包括对准区域、周边区域和遮挡区域。对准区域具有外轮廓；周边区域至少围绕部分所述对准区域的外轮廓设置；遮挡区域围绕所述对准区域的外轮廓设置，且不与所述周边区域重合；所述对准区域和所述遮挡区域是不透明的，所述周边区域至少是部分透明的。该对准标记可以使得曝光机更准确地获取对准标记的位置，从而提高基板与掩模板对位的准确性。同时，该对准标记还减少对准错误的报警，提高生产效率。CN109856930ACN109856930A权利要求书1/2页1.一种对准标记，包括：对准区域，具有外轮廓；周边区域，至少围绕部分所述对准区域的外轮廓设置；以及遮挡区域，至少围绕部分所述对准区域的外轮廓设置，且不与所述周边区域重合；其中，所述对准区域和所述遮挡区域是不透明的，所述周边区域至少是部分透明的。2.根据权利要求1所述的对准标记，其中，所述对准区域为多边形。3.根据权利要求2所述的对准标记，其中，所述对准区域为矩形。4.根据权利要求2或3所述的对准标记，其中，所述周边区域包括多个沿所述对准区域的外轮廓的每条边的延伸方向延伸并超出所述对准区域的外轮廓的条形结构。5.根据权利要求1所述的对准标记，其中，所述对准区域为圆形。6.根据权利要求2或3或5所述的对准标记，其中，所述周边区域的形状为环形，所述环形的轮廓形状与所述对准区域的外轮廓的形状相同。7.根据权利要求5所述的对准标记，其中，所述周边区域包括多个沿所述对准区域的切线方向延伸并超出所述对准区域的外轮廓的条形结构。8.根据权利要求1所述的对准标记，其中，所述对准区域和所述遮挡区域的材料为感光材料。9.一种基板，包括至少一个权利要求1-8任一所述的对准标记。10.根据权利要求9所述的基板，包括：工作区和位于所述工作区周边的非工作区；所述对准标记位于所述非工作区内。11.根据权利要求9所述的基板，其中，所述基板为显示基板。12.根据权利要求11所述的基板，其中，所述基板为母板，所述母板包括多个基板单元，每个所述基板单元包括将所述基板单元划分为多个阵列单元的黑矩阵；所述对准标记的对准区域和遮挡区域的材料与所述黑矩阵的材料相同。13.一种权利要求9-10或12任一所述的基板的制作方法，包括：提供衬底基板，所述衬底基板包括工作区以及位于所述工作区周边的非工作区；在所述衬底基板上形成不透明膜层；以及对所述不透明膜层进行图案化，以形成所述对准标记的对准区域、周边区域和遮挡区域。14.根据权利要求13所述的基板的制作方法，其中，所述不透明膜层为黑色感光膜层，采用光刻工艺实现所述图案化。15.根据权利要求13所述的基板的制作方法，其中，所述基板还包括黑矩阵，所述基板的制作方法还包括在衬底基板的工作区域中形成所述黑矩阵；所述对准标记与所述黑矩阵经由同一工艺同时形成。16.一种曝光对准方法，包括：提供基板、曝光机和掩模板，其中，所述基板上形成有根据权利要求1-8任一所述的对准标记的第一对准标记，所述掩模板包括第二对准标记；通过所述曝光机获取所述第一对准标记的对准区域的位置信息；以及调整所述基板与所述掩模板之间的相对位置，将所述掩模板与所述基板对准。2CN109856930A权利要求书2/2页17.根据权利要求16所述的曝光对准方法，其中，所述曝光机包括镜头，所述掩模板位于所述镜头与所述基板之间，通过所述镜头采集所述对准标记的对准区域的图像信息。18.根据权利要求16所述的曝光对准方法，其中，所述第二对准标记具有对准中心，将所述第一对准标记的对准区域的位置信息与所述第二对准标记的对准中心的位置信息相同以实现所述对准。3CN109856930A说明书1/8页对准标记、基板及其制作方法、曝光对准方法技术领域[0001]本公开至少一实施例涉及一种对准标记、基板及其制作方法、曝光对准方法。背景技术[0002]在光刻工艺中的曝光工序中，通常会采用曝光机配合掩模板进行。在这个过程中，需要将掩模板与被加工物例如基板进行对准，之后曝光机发射光束通过掩模板从而对被加工物表面上涂覆的光刻胶进行曝