一种大尺寸超薄钽酸锂晶圆片的减薄方法.pdf
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一种大尺寸超薄钽酸锂晶圆片的减薄方法.pdf
一种大尺寸超薄钽酸锂晶圆片的减薄方法。本发明提供了一种“大尺寸、超薄”钽酸锂晶圆片的减薄方法,属于半导体材料减薄技术领域。包括下列步骤:提供钽酸锂晶圆片,并用酸性腐蚀液腐蚀晶圆;采用不同型号砂轮对晶圆片进行分段式减薄,加工时调节砂轮转速、工件进给速度进行减薄。本发明可解决大尺寸超薄晶圆片加工过程中的碎片问题,通过采用逐级减薄方式,分阶段去除前一道留下的损伤层,提高了后工序的加工效率和加工质量。
一种超薄晶圆减薄工艺.pdf
本发明涉及超薄晶圆制备技术领域,具体为一种超薄晶圆减薄工艺,在晶圆表面与固定载体之间通过光刻胶固定粘接,控制粘接固化的厚度均匀,经过晶圆背磨工艺后继续对研磨面进行湿法刻蚀,消除晶圆背磨损伤层后剥离固定载体并去除光刻胶;能够通过固定载体为晶圆减薄起到支撑的刚性结构作用,并且配合光刻胶保护晶圆表面在工艺过程中不受影响;通过光刻胶能够实现快速固化粘接或后期剥离,有利于提高生产效率;在背磨工艺中设有激光辐射退火工艺和湿法刻蚀工艺处理晶圆表面能够削减翘曲度,能够使其晶圆表面的平坦度更好,背磨条件使其翘曲度能够进一步
超薄晶圆减薄工艺研究.docx
超薄晶圆减薄工艺研究超薄晶圆减薄工艺研究摘要:超薄晶圆在微电子和光电子领域有着广泛应用,然而如何实现超薄晶圆的减薄是一个重要而有挑战性的工艺。本论文主要探讨了超薄晶圆减薄工艺的研究,包括减薄方法、材料选择以及减薄过程中可能遇到的问题和解决方案。通过深入研究超薄晶圆减薄工艺,使得超薄晶圆的减薄工艺更加可靠,为提高超薄晶圆在微电子和光电子领域的应用提供了参考。引言:随着微电子和光电子技术的不断发展,对超薄晶圆的需求也越来越高。超薄晶圆具有较低的材料成本、较小的尺寸和较高的柔韧性等优点,在微型传感器、柔性显示器
一种大尺寸硅圆片减薄装置及其减薄工艺.pdf
本发明提供一种大尺寸硅圆片减薄装置,包括用于放置硅圆片的载体座、用于放置左砂轮的左砂轮座以及用于放置右砂轮的右砂轮座,所述载体座、所述左砂轮座和所述右砂轮座同轴设置,所述左砂轮座和所述右砂轮座对称设置在所述载体座两侧且与所述载体座并行设置。本发明还提出一种大尺寸硅圆片减薄工艺。本发明尤其是适用于对尺寸直径为280‑320mm的硅圆片进行立式双面减薄,结构设计合理且简单,不仅可对硅圆片两侧面同时同步进行磨削,而且各结构配合可控,拆装保养简单,省时省力,保证硅圆片双面减薄的平整度和稳定性,提升工作效率。
一种大尺寸钽酸锂晶体单畴化方法.pdf
本发明涉及压电晶体技术领域,尤其是一种大尺寸钽酸锂晶体单畴化方法,包括以下步骤:a)将钽酸锂晶体放于高温炉内,升温至1350℃,保温4h,完成晶体退火,降至常温;b)将碳酸锂原料粉末、粘结剂按1:0.8~1:1的比例混合制成极化浆液,涂抹于退火完钽酸锂晶体的极化两端,再把极化用黄金丝埋于极化浆液内,迅速烘干,制成极化晶帽;c)将退火完的钽酸锂晶体按50‑60℃/h的升温速率升温,并使用电阻测试仪记录钽酸锂晶体电阻变化,当温度超过600℃,电阻变化速率变小,达到2Ω/10℃时,暂停升温,PLC施加电流对钽酸