掩模图像的分割方法及系统.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110458843A(43)申请公布日2019.11.15(21)申请号201910566963.0(22)申请日2019.06.27(71)申请人清华大学地址100084北京市海淀区100084信箱82分箱清华大学专利办公室(72)发明人江瑞黄力炜(74)专利代理机构北京鸿元知识产权代理有限公司11327代理人张超艳金庆军(51)Int.Cl.G06T7/10(2017.01)G06T7/13(2017.01)G06T7/155(2017.01)权利要求书1页说明书3页附图2页(54)发明名称掩模图像的分割方法及系统(57)摘要本发明属于计算机图像处理技术领域，公开了一种掩模图像的分割方法及系统，包括以下步骤：一、掩模图像检测，提取掩模图像的轮廓、凸包和凸缺陷及凸缺陷的四个特征信息；二、凸缺陷筛选，筛选出满足以下条件的凸缺陷：最远点与轮廓的距离大于第一阈值，起点到终点的距离大于第二阈值，最远点与轮廓的距离大于同一凸包上所有凸缺陷的最远点与轮廓的距离中的最大值的百分之五十；三、分割处理，在经过筛选后的凸缺陷中找出同一凸包上且最远点相互距离最近的，以其最远点为分割点，沿分割点两两排序后的连线分割处理。还提供了一种掩模图像的分割系统，系统采用了前述方法来实现对掩模图像的分割处理。解决了掩模图像分割中的过度或欠分割问题。CN110458843ACN110458843A权利要求书1/1页1.一种掩模图像的分割方法，其特征在于，包括以下步骤：掩模图像检测，包括提取掩模图像的轮廓、凸包和凸缺陷，获取掩模图像中每个凸缺陷的四个特征信息：凸缺陷起点坐标，凸缺陷终点坐标，凸缺陷的最远点坐标以及所述最远点与轮廓的距离；凸缺陷筛选，包括筛选出满足以下条件的凸缺陷：最远点与轮廓的距离大于第一阈值，起点到终点的距离大于第二阈值，最远点与轮廓的距离大于同一凸包上所有凸缺陷的最远点与轮廓的距离中的最大值的百分之五十；分割处理，包括在经过筛选后的凸缺陷中找出同一凸包上且最远点相互距离最近的，以相互距离最近的最远点为分割点，分割点两两排序连线作为分割线，沿分割线进行掩模图像的分割处理。2.根据权利要求1所述的掩模图像的分割方法，其特征在于，还包括掩模图像腐蚀和掩模图像膨胀，掩模图像腐蚀在掩模图像检测之前进行，采用卷积核对掩模图像进行腐蚀，将掩模图像边缘的干扰凹陷给去除；掩模图像膨胀在进行凸缺陷筛选后进行，采用卷积核对腐蚀后的掩模图像进行膨胀，将腐蚀后的掩模图像恢复到腐蚀前的掩模图像的总位置和。3.根据权利要求2所述的掩模图像的分割方法，其特征在于，在掩模图像腐蚀中，采用3×3的矩形卷积核对掩模图像进行腐蚀。4.根据权利要求2所述的掩模图像的分割方法，其特征在于，在掩模图像膨胀中，采用3×3的矩形卷积核对掩模图像进行膨胀。5.根据权利要求3所述的掩模图像的分割方法，其特征在于，在掩模图像膨胀中，采用与掩模图像进行腐蚀的卷积核相同的3×3的矩形卷积核对掩模图像进行膨胀。6.根据权利要求1所述的掩模图像的分割方法，其特征在于，所述掩模图像检测的过程包括：先提取掩模图像的边缘信息得到轮廓；并根据所提取的边缘信息获取凸包；然后根据凸包获取凸包上的凸缺陷及其四个特征信息，记录凸缺陷的特征信息。7.根据权利要求1所述的掩模图像的分割方法，其特征在于，所述凸缺陷筛选的过程包括：遍历每个凸缺陷的四个特征信息；找出满足第一阈值、第二阈值及最远点与轮廓的距离控制条件的凸缺陷；对满足条件的凸缺陷的特征信息进行保存。8.根据权利要求1所述的掩模图像的分割方法，其特征在于，所述第一阈值采用图像特征提取方法或者结合深度学习的方法从掩模图像中提取。9.根据权利要求1所述的掩模图像的分割方法，其特征在于，所述第二阈值采用图像特征提取方法或者结合深度学习的方法从掩模图像中提取。10.一种掩模图像的分割系统，其特征在于，包括扫描模块、运算模块、存储模块和裁剪模块；采用权利要求1-9中任意一项所述的掩模图像的分割方法，所述扫描模块对掩模图像进行扫描检测，把获取的轮廓、凸包、凸缺陷及其特征信息存储到存储模块，由运算模块进行判断处理筛选凸缺陷并确定分割点，由裁剪模块沿连接分割点的分割线进行掩模图像的裁剪分割处理。2CN110458843A说明书1/3页掩模图像的分割方法及系统技术领域[0001]本发明属于计算机图像处理技术领域，具体涉及一种掩模图像的分割方法及系统，可用于细胞掩模图像或者其他各种掩模图像的分割。背景技术[0002]影像技术和图像处理技术正飞速发展，人们常常需要通过处理各类图像来提取图像中想要的特征信息，各种图像分割算法就应运而生。[0003]当图像中需要提取的要素相互不存在重叠和粘连，各种图像分割算法都可以较好