酸性光亮镀铜工艺.doc
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深圳市广川电子材料有限公司GuangChuanDianZiAC510ACIDCU510BRIGHTACIDCOPPERPLATINGPROCESS?1.镀液容易控制,出光快,镀层填平度极佳。2.镀层不易产生针孔,内应力低,富延展性。3.电流密度范围宽阔,镀层填平度可高至80%,达致光亮效果4.沉积速度特快,在4.5安培/平方分米的电流密度下,每分钟可镀1微米的铜层,电镀时间因而缩短。5.镀层电阻率低,故非常适合于对镀层物理性能要求高的电机工业。6.可应用于各种不同类型的基体金属,铁件、锌合金件、塑胶件等同
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酸性光亮镀铜工艺研究.docx
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光亮酸性镀铜去膜工艺.docx
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