游星轮与抛光方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110871399A(43)申请公布日2020.03.10(21)申请号201810997467.6(22)申请日2018.08.29(71)申请人东泰高科装备科技（北京）有限公司地址102209北京市昌平区北七家镇宏福创业园15号院(72)发明人王乐军宋士佳李琳琳彭东阳刘桂勇姜宏(74)专利代理机构北京康信知识产权代理有限责任公司11240代理人韩建伟谢湘宁(51)Int.Cl.B24B37/08(2012.01)B24B37/28(2012.01)H01L21/02(2006.01)权利要求书1页说明书7页附图8页(54)发明名称游星轮与抛光方法(57)摘要本申请提供了一种游星轮与抛光方法。该游星轮不具有通孔且不具有凹槽，游星轮侧面具有多个周向排列的齿轮。的游星轮不具有放置晶片或者固定基板的凹槽或者通孔，将其应用在双面抛光机中，对只需要单面抛光的晶片进行抛光时，晶片的需要抛光的表面裸露，不需要抛光的表面设置在游星轮的表面上，被游星轮保护，这样既能使得需要抛光的表面可以利用双面抛光机的一个抛光盘进行抛光，进一步保证了该表面抛光后的粗糙度以及TTV均能满足要求，同时也能保证不需要抛光的表面没有被损坏。CN110871399ACN110871399A权利要求书1/1页1.一种游星轮，其特征在于，所述游星轮(10)不具有通孔且不具有凹槽，所述游星轮(10)侧面具有多个周向排列的齿轮(111)。2.根据权利要求1所述的游星轮，其特征在于，所述游星轮(10)包括齿轮环(11)和设置在所述齿轮环(11)内的内置盘(12)，所述内置盘(12)可随着所述齿轮环(11)同步转动，优选所述内置盘(12)的厚度大于所述齿轮环(11)的厚度，优选地，所述内置盘(12)为圆形盘或多边形盘。3.根据权利要求2所述的游星轮，其特征在于，所述游星轮(10)还包括定位键(13)，所述齿轮环(11)的内侧面和/或所述内置盘(12)的外侧面具有定位槽，所述定位键(13)位于所述定位槽内且使得所述内置盘(12)可随着所述齿轮环(11)同步运动。4.根据权利要求3所述的游星轮，其特征在于，所述内置盘(12)的外侧面具有第一定位槽(121)，所述齿轮环(11)的内侧面具有第二定位槽(112)，所述第一定位槽(121)和所述第二定位槽(112)对应设置，所述定位键(13)位于所述第一定位槽(121)和所述第二定位槽(112)形成的孔内。5.根据权利要求3所述的游星轮，其特征在于，所述齿轮环(11)的内侧面具有第二定位槽(112)，所述定位键(13)设置在所述第二定位槽(112)内。6.一种抛光方法，其特征在于，所述抛光方法包括：步骤S1，将晶片(30)设置在权利要求1至5中的任一项所述的游星轮(10)的表面上；步骤S2，将设置有所述晶片(30)的所述游星轮(10)设置在双面抛光机的第一抛光盘表面上的抛光垫上，且使得所述晶片(30)与所述抛光垫的表面接触设置；以及步骤S3，开启所述双面抛光机，对所述晶片(30)进行抛光，且所述游星轮(10)的自转方向和所述第一抛光盘旋转方向相同。7.根据权利要求6所述的抛光方法，其特征在于，所述步骤S1包括：将抛光模板(20)粘结在所述游星轮(10)的表面上，形成第一结构；以及将所述晶片(30)吸附在所述抛光模板(20)的远离所述游星轮(10)的一侧，形成第二结构。8.根据权利要求7所述的抛光方法，其特征在于，形成所述第一结构后，所述步骤S1还包括：观察所述游星轮(10)和所述抛光模板(20)之间是否有气泡，当有所述气泡时，将所述抛光模板(20)取下，重新粘结在所述游星轮(10)上，直到所述游星轮(10)和所述抛光模板(20)之间没有气泡；以及向所述第一结构表面喷去离子水，使得所述第一结构的表面湿润。9.根据权利要求7所述的抛光方法，其特征在于，所述抛光模板(20)的远离所述游星轮(10)的表面为第一表面，所述第一表面对应的平面为第一平面，所述晶片(30)在所述第一平面上的投影位于所述第一表面内；所述游星轮(10)的靠近所述抛光模板(20)的表面为第二表面，所述第二表面对应的平面为第二平面，所述抛光模板(20)在所述第二平面上的投影位于所述第二表面内。10.根据权利要求6所述的抛光方法，其特征在于，所述步骤S3中，所述双面抛光机的第一抛光盘的转速在20～50rpm之间，所述双面抛光机的第二抛光盘的转速在3～25rpm之间。2CN110871399A说明书1/7页游星轮与抛光方法技术领域[0001]本申请涉及半导体领域，具体而言，涉及一种游星轮与抛光方法。背景技术[0002]随着半导体工业飞速发展，电子器件的尺寸越来越小，对晶片表面的粗糙度、TTV(总厚度偏差)、