先进光刻胶工艺质量评估方法及系统.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111553901A(43)申请公布日2020.08.18(21)申请号202010350818.1(22)申请日2020.04.28(71)申请人南京诚芯集成电路技术研究院有限公司地址211899江苏省南京市浦口区江浦街道浦滨路320号科创一号大厦B座21楼(72)发明人张利斌韦亚一董立松粟雅娟陈睿张世鑫(74)专利代理机构南京苏博知识产权代理事务所(普通合伙)32411代理人陈婧(51)Int.Cl.G06T7/00(2017.01)G06T7/13(2017.01)G03F7/20(2006.01)权利要求书2页说明书6页附图3页(54)发明名称先进光刻胶工艺质量评估方法及系统(57)摘要本发明公开了一种先进光刻胶工艺质量评估方法及系统，所述先进光刻胶工艺质量评估系统包括图像获取模块、轮廓提取模块、粗糙度计算模块、拟合模块、特征分析模块和质量评估模块，所述图像获取模块、所述轮廓提取模块、所述粗糙度计算模块、所述拟合模块、所述特征分析模块和所述质量评估模块依次连接，对获取的光刻胶进行光刻，得到电子束显微图像；根据所述电子束显微图像，提取所述光刻胶边缘轮廓，同时计算出边缘粗糙度和宽度粗糙度；利用拟合函数计算功率谱密度曲线，并得到拟合参数，并计算所有所述电子束显微图像的特征参数，根据所述光刻胶的特征值，建立光刻胶质量评估表，能够筛选最佳的光刻胶产品。CN111553901ACN111553901A权利要求书1/2页1.一种先进光刻胶工艺质量评估方法，其特征在于，包括：对获取的光刻胶进行光刻，得到电子束显微图像；根据所述电子束显微图像，提取所述光刻胶边缘轮廓；根据所述边缘轮廓计算边缘粗糙度和宽度粗糙度；利用拟合函数计算功率谱密度曲线，并得到拟合参数；根据所述拟合参数，计算所有所述电子束显微图像的特征参数；根据所述光刻胶的特征值，建立光刻胶质量评估表。2.如权利要求1所述的先进光刻胶工艺质量评估方法，其特征在于，所述对获取的光刻胶进行光刻，得到电子束显微图像，包括：对获取的光刻胶经过深紫外光刻后，通过电子束显微镜得到包括致密的线条结构和变周期线条结构的电子束显微图像。3.如权利要求2所述的先进光刻胶工艺质量评估方法，其特征在于，根据所述电子束显微图像，提取所述光刻胶边缘轮廓，包括：对所述电子束显微图像去噪后，根据所述电子束显微图像中沿线条垂直方向的平均像素曲线，并基于设定的绝对阈值，计算出对应的边缘和沿所述线条方向的所有边缘。4.如权利要求3所述的先进光刻胶工艺质量评估方法，其特征在于，根据所述边缘轮廓计算边缘粗糙度和宽度粗糙度，包括：基于所述沿线条方向的边缘分布数值和平均值，计算出所述边缘分布数值和所述平均值之间的标准差，并以所述标准差的3倍得到边缘粗糙度数值。5.如权利要求4所述的先进光刻胶工艺质量评估方法，其特征在于，根据所述边缘轮廓计算边缘粗糙度和宽度粗糙度，还包括：基于对应线条的左右相邻的边缘分布数值，计算出沿所述线条方向的宽度值向量的平均值，得到线条宽度，基于所述宽度值向量的标准差的三倍，得到宽度粗糙度。6.如权利要求5所述的先进光刻胶工艺质量评估方法，其特征在于，所述利用拟合函数计算功率谱密度曲线，并得到拟合参数，包括：将所述边缘粗糙度和所述宽度粗糙度进行频率域变换后，基于功率谱密度函数计算出对应的边缘功率谱密度曲线和宽度功率谱密度曲线，同时利用拟合函数对所述边缘功率谱密度曲线和所述宽度功率谱密度曲线进行拟合，得到设定的拟合参数。7.如权利要求6所述的先进光刻胶工艺质量评估方法，其特征在于，根据所述拟合参数，计算所有所述电子束显微图像的特征参数，包括：根据所述边缘粗糙度、所述宽度粗糙度和所述拟合参数，计算所述电子束显微图像的光酸扩散长度和光刻胶均匀性。8.如权利要求7所述的先进光刻胶工艺质量评估方法，其特征在于，根据所述光刻胶的特征值，建立光刻胶质量评估表，包括：基于不同组分的所述光刻胶特征值，根据对应的所述光酸扩散长度和所述宽度粗糙度建立光刻胶质量评估表。9.一种先进光刻胶工艺质量评估系统，其特征在于，所述先进光刻胶工艺质量评估系统包括图像获取模块、轮廓提取模块、粗糙度计算模块、拟合模块、特征分析模块和质量评估模块，所述图像获取模块、所述轮廓提取模块、所述粗糙度计算模块、所述拟合模块、所述2CN111553901A权利要求书2/2页特征分析模块和所述质量评估模块依次连接，所述图像获取模块，用于通过电子束显微镜获取经过深紫外光刻的光刻胶的电子束显微图像；所述轮廓提取模块，用于根据所述电子束显微图像，提取所述光刻胶边缘轮廓；所述粗糙度计算模块，用于根据所述边缘轮廓计算边缘粗糙度和宽度粗糙度；所述拟合模块，用于根据所述边缘粗糙度和所述宽度粗糙度