一种阴极辊精密研磨抛光方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111761418A(43)申请公布日2020.10.13(21)申请号202010428167.3(22)申请日2020.05.20(71)申请人金川集团股份有限公司地址737103甘肃省金昌市金川路98号(72)发明人包能远禹泽海王永军李岩李旭东李睿(74)专利代理机构中国有色金属工业专利中心11028代理人范威(51)Int.Cl.B24B1/00(2006.01)权利要求书1页说明书5页(54)发明名称一种阴极辊精密研磨抛光方法(57)摘要本发明公开了一种阴极辊精密研磨抛光方法，包括：研磨环境为密闭无尘，用纯水浸泡抛光轮；采用粒度为60目抛光轮、120目抛光轮依次进行表面粗磨；采用粒度为320目抛光轮、600目抛光轮依次进行表面精磨；对经精磨的阴极辊进行表面清洗；采用粒度为800目抛光轮、1000目抛光轮依次对阴极辊进行表面精抛；对阴极辊进行表面清洗。本发明工艺所形成的阴极辊，表面粗糙度在0.2μm以下，具有一定镜面效果，生产运行周期长，产品晶体致密。CN111761418ACN111761418A权利要求书1/1页1.一种阴极辊精密研磨抛光方法，其特征在于，所述方法步骤包括：(1)在密闭无尘环境中放置研磨床，利用纯水浸泡粒度分别为60目、120目、320目、600目、800目、1000目抛光轮，直到彻底浸透，将待处理阴极辊置于阴极辊转动架上；(2)采用经浸泡过的粒度为60目抛光轮、120目抛光轮依次对阴极辊进行表面粗磨；(3)采用经浸泡过的粒度为320目抛光轮、600目抛光轮依次对经步骤(2)得到的阴极辊进行表面精磨；(4)对经步骤(3)得到的阴极辊进行表面清洗；(5)采用经浸泡过的粒度为800目抛光轮、1000目抛光轮依次对经步骤(4)得到的阴极辊进行表面精抛；(6)对经步骤(5)得到的阴极辊进行表面清洗。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤(2)研磨压力为0.14MPa～0.16MPa，阴极辊转速为8～10r/min，抛光轮转速为350～450r/min，抛光轮平移速度为80～100mm/min。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤(3)研磨压力为0.12MPa～0.14MPa，阴极辊转速为8～10r/min，抛光轮转速为350～450r/min，抛光轮平移速度为70～100mm/min。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤(5)研磨压力为0.10MPa～0.12MPa，阴极辊转速8～10r/min，抛光轮转速为350～450r/min，抛光轮平移速度为50～60mm/min。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤(4)和步骤(6)表面清洗均为：依次采用百洁布、海绵、洗涤剂、稀硫酸铜溶液对阴极辊进行表面清洗。6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述稀硫酸铜溶液浓度为20％。7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述纯水电导率≤1.0μs/cm。2CN111761418A说明书1/5页一种阴极辊精密研磨抛光方法技术领域[0001]本发明涉及研磨抛光领域，具体涉及一种阴极辊精密研磨抛光方法。背景技术[0002]锂电铜箔是锂离子电池负极集流体的主要材料，其厚度、均一性、物理性能、表面性能等指标直接影响到锂离子电池的循环性能、能量密度等指标。由于阴极辊表面是铜箔结晶生长的唯一基体，辊面的质量不仅与铜箔光面的表观质量有直接关系，而且对铜箔的内在质量和毛面的微观形态有间接影响，所以阴极辊的表面抛光质量和洁净程度是铜箔生产的关键环节。[0003]传统研磨抛光工艺分为二种，一种以纯水为抛光液，采用不同粒度(320目、600目、800目)PVA抛光轮作为工作介质，在不同压力、不同转速下研磨抛光，该方法虽然能达到一定的阴极辊表面光洁、粗糙度低的效果，但是在铜箔生产过程中，主要存在辊面氧化快、运行寿命短、铜箔结晶粗大，细微磨料附着于辊面难以清除等问题；另一种以有机物组成水溶液为化学抛光液，阴极辊浸泡于其中，采用1000目磨料的抛光刷抛光，在一定压力和转速下的研磨抛光，该方法主要存在化学抛光液对钛阴极辊的表面润湿作用下降，去除氧化层的能力变弱，抛光效果差，化学抛光液浓度过高，容易在阴极辊上形成残留，难于清洗，极易造成生箔溶液系统所受污染，上述两种方法均无法生产出高品质超薄锂电铜箔产品。发明内容[0004]针对上述已有技术存在的不足，本发明提供一种阴极辊精密研磨抛光方法。[0005]本发明是通过以下技术方案实现的。[0006]一种阴极辊精密研磨抛光方法，其特征在于，所述方法步骤包括：[0007](1)在密闭无尘环境中放置研磨床，利用纯水浸泡粒度分别为60目、120目、320目、600目、800目、1