形成冷却孔的方法.pdf
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相关资料
形成冷却孔的方法.pdf
一种关于在涡轮发动机的部件中形成冷却孔的设备和方法,其中部件保持在成孔机中,其中激光器承载在多轴托架上并限定光路,该方法包括利用安装在多轴托架上的激光器在部件中形成一组冷却孔,基于有关该组冷却孔的流动效率的一组数据估计通过该组冷却孔的总气流,以及利用激光器形成第二组冷却孔。
冷却装置、图像形成设备和冷却方法.pdf
本发明涉及冷却装置、图像形成设备和冷却方法。连续的树脂膜被传送并且色调剂图像被转印到所述连续的树脂膜上,在所述色调剂图像被加热以使得所述色调剂图像被定影到所述树脂膜之后,所述冷却装置冷却所述连续的树脂膜。所述色调剂图像所定影到的所述树脂膜在所述树脂膜的图像表面侧以凸出的方式弯曲的状态下被冷却。
形成通孔的方法.pdf
本发明提供了一种形成通孔的方法,包括:提供前端器件结构,所述前端器件结构上具有层间介质层,所述层间介质层上形成有具有开口图案的硬掩膜层,露出部分所述层间介质层;对所述硬掩膜层和所述层间介质层进行等离子体放电处理和/或气体吹扫;以所述硬掩膜层为掩膜,刻蚀所述层间介质层,形成所述通孔。根据本发明,能够避免在形成通孔时出现盲孔,提高了半导体器件的整体性能,提高了良品率。
冷却孔掩蔽方法和用于掩蔽冷却孔的掩蔽工艺的装置.pdf
本发明涉及一种用于涂覆工艺的对涡轮机部件(3)尤其是涡轮机叶片或风叶的冷却孔(25)进行掩蔽的方法。所述部件(3)包括待涂覆的外表面(27)、具有通向所述部件(3)外的开口(23)的至少一个内部空腔(21)、和从所述至少一个内部空腔(21)延伸至所述外表面(27)的冷却孔(25)。所述方法包括以下步骤:用掩蔽材料填充所述冷却孔(25),并使所述掩蔽材料硬化。将水作为掩蔽材料填充到冷却孔(25)中。通过将水冷冻成冰来完成硬化。
接触孔形成方法.pdf
一种接触孔形成方法,包括:提供形成了一个以上栅极结构的半导体衬底;在所述半导体衬底以及栅极结构上沉积第一氧化硅-氮化硅-第二氧化硅的复合结构;在第一氧化硅-氮化硅-第二氧化硅的复合结构上沉积多晶硅层,所述多晶硅层填充栅极结构之间的空隙并且厚度大于栅极结构的厚度;采用干法刻蚀工艺去除与栅极位置对应的多晶硅,只保留位于栅极结构之间的多晶硅;采用湿法刻蚀工艺去除暴露出的第二氧化硅;在暴露出的氮化硅层上以及多晶硅层上沉积介质层;平坦化所述介质层至暴露出多晶硅层;去除所述多晶硅层,形成接触孔。所述方法去除了干法刻蚀