化学气相沉积CVD-豆柴文库

化学气相沉积CVD.ppt

2024-09-11

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天马****23

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§8.3化学气相沉积（CVD）一、普通CVDNi(CO)4(气)190～240℃Ni(固)＋4CO↑CH4(气)900~1200℃C(固)＋2H2↑TiI4(气)加热Ti(固)＋2I2↑用作热分解反应沉积的气态化合物原料主要有：硼的氯化物，氢化物；第IV族大部分元素的氢化物和氯化物；VB、VIB族的氢化物和氯化物；铁、镍、钴的羰基化合物和羰基氯化物；以及铁、镍、铬、铜等的金属有机化合物等。（2）化学反应沉积（3）沉积条件2.沉积装置反应器的类型：沉积过程：3.分类4.影响沉积膜质量的因素（2）反应气

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