LIGA工艺的发展及应用.pdf

!"!#器件与技术
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!"#$工艺的发展及应用

孔祥东!张玉林!宋会英
"山东大学控制科学与工程学院电子束研究所!山东济南MBNN$2#

摘要!介绍了./01",FO(DH)5P(F+!H5,E5GD*D)C9GH5G-5Q*D)C9GH$技术以及在此基础上开发出来
的准./01%,F;+4./01$技术&=./01"I5:)F*F:F5,./01$&?M./01"CDEFGHC5I;./01$技术和
抗蚀剂回流./01"RS./01(’(P(DOD)+IFIO)+*,DT./01#技术等)利用这一系列./01技术!可
以生成具有高深宽比的复杂微结构!如微尖阵列&球形曲面&活动部件等!能较好地满足?’?=
发展的需要)最后指出了目前这些方法存在的缺陷)
关键词!./01*光刻胶*3射线*曝光
中图分类号!UVWNBXJ文献标识码!1文章编号!2$J24AJJ$&MNNA’NB4NN2W4N$

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YZV03F5GH4-DGH![71V0\94,FG!=ZV079F46FGH
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267)89-)(1I+)F+ID*./01&,FO(DH)5P(F+!H5,E5GD*D)C9GH5G-5Q*D)C9GH’O+:(GD,DHF+I5)+FGO)D4
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./01’5G-)+IFIO4)+*,DT4./01&RS./01))P(DOD)+IFIO)+*,DT./01’8UDC++OO(+-+E+,DPC+GOD*
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:"5;%8+7(./01*P(DOD)+IFIO*34)56*+^PDI9)+

微传感器%微执行器和?’?=器件等领域!各国
!引言
科研人员又在./01技术的基础上研究并提出了
为了能够产生高深宽比的三维微结构!!"#$@’?技术"A!B#%掩模移动./01技术&CDEFGH
年德国教授%&’()*+,-等人首次提出了./01C5I;./01’"$!J#和抗蚀剂回流./01技术"K!"#
技术"2#!又称为34)564./01$其后!美国78等!将./01技术的内涵进一步扩大$目前./01
09:;+,教授等人在以后的几年里研究并提出了使工艺已广泛应用于微机电系统元件制作%信息与
用深紫外光代替同步3射线的准./01技术"<#和通信技术%化学工程%自动化和机器人技术%环
牺牲层=./01技术">#$这使得基于./01技术的境与医学工程等各个方面"2L#$本文将对上述部分
产品成本大大降低!并使得制造免组装可活动微工艺进行较为详细的描述!以便于对其进一步的
器件成为可能$为了将./01技术更广泛地应用到开发和利用$

收稿日期!MNNW_2M_>N
基金项目!山东省高科技发展基金资助项目&NMMN"N2NB’*山东省教育厅科技计划项目&N>‘B>’

!"#$%&’&%()(*+$%&"*,(*-&%)%./0!"#$%%&!"微纳电子技术!""#年第$期
!"!#器件与技术
!"!#$%&’(%)*%(+,-.-/0

个与掩模图形相同的三维光刻胶微结构"
!"#$%技术!&"&&’&(#
!%(微电铸
"#)%技术首先是由德国卡尔斯鲁厄核物理利用光刻胶层下面的金属薄层作为阴极对显
研究中心研究出来的!被公认为是一种全新的三影后的三维光刻胶微结构进行电镀!将金属填充
维微细加工技术"开发研究"*)%技术的初始目到光刻胶三维结构的空隙中!直到金属层将光刻
的是为了加工出能够将铀同位素进行分离的特别胶浮雕完全覆盖住!形成一个稳定的%与光刻胶
微小的管嘴#&($""#)%技术是深度+射线曝光%结构互补的密闭金属结构"此金属结构可以作为
微电铸和微复制工艺的完美结合"它能够制造平最终的微结构产品!也可以作为批量复制的模具"
面尺寸在微米级%结构高度达几百微米的微结!%#模铸
构"其工艺流程如图&所示#&($!